常圧焼結と放電プラズマ焼結による透明SiO<sub>2</sub>ガラスの製造

ZHANG Jianfeng; TU Rong; GOTO Takashi

文献

J-GLOBAL ID：201202255567743166 整理番号：12A0509510

常圧焼結と放電プラズマ焼結による透明SiO₂ガラスの製造

Fabrication of transparent SiO₂ glass by pressureless sintering and spark plasma sintering

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巻： 38 号： 4 ページ： 2673-2678 発行年： 2012年05月
JST資料番号： H0705A ISSN： 0272-8842 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

透明SiO₂体を常圧焼結法(PLS)と放電プラズマ焼結(SPS)法により製造した。焼結とアニーリング温度がSiO₂の透過率に及ぼす影響を調べた。1073~1573KでSPSとPLSで焼結したSiO₂体は非晶質であった。焼結温度を1673Kに増加させると,PLSで焼結したSiO₂体は結晶化した。一方,SPS焼結したものは,非晶質であった。SPSで焼結したSiO₂体の相対密度は,1573Kと1373Kでそれぞれ98.5%及び100%であった。PLSで焼結した場合には,1573Kと1373Kで,それぞれ92.6%と98.9%であった。SPSとPLSで焼結したSiO₂体の透過率は,それぞれ2μmの波長(λ)で91.0%と81.5%であった。1573KでSPS焼結したSiO₂体の透過率は紫外線の範囲で約40%であった。1073Kで1時間熱処理した後は,λ=200nmで75%に増加した。これはPLS(24.8%)で焼結したSiO₂体透過率の約3倍であった。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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ガラスの製造

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常圧焼結と放電プラズマ焼結による透明SiO2ガラスの製造

常圧焼結と放電プラズマ焼結による透明SiO₂ガラスの製造