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J-GLOBAL ID:201202256037057519   整理番号:12A0098153

フレキシブル基板上に室温で作製した透明導電性ITO/Cu/ITO膜

Transparent conductive ITO/Cu/ITO films prepared on flexible substrates at room temperature
著者 (4件):
資料名:
巻: 258  号:ページ: 3082-3085  発行年: 2012年01月15日 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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透明導電性ITO/Cu/ITO膜をマグネトロンスパッタリングにより三つのカソードを使用して室温でPET基板上に堆積した。SiO2バッファ層及びCu中間層の厚さがITO/Cu/ITO膜の構造,電気及び光学特性に与える影響を調べた。光透過率はSiO2バッファ層の影響を少し受けたが,ITO/Cu/ITO膜の電気特性は改善された。SiO2/ITO/Cu/ITO膜の透過率及び抵抗率はCu層の厚さが増加すると小さくなった。厚さ40nmのSiO2バッファ層上に堆積した5nmのCu中間層をもつITO/Cu/ITO膜は143Ω/sqのシート抵抗及び波長550nmで65%の透過率を示した。ITO/Cu/ITO膜の光学及び電気特性は主としてCu層に依存した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
分類
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酸化物薄膜  ,  光物性一般  ,  半導体結晶の電気伝導 

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