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J-GLOBAL ID：201202256669389967   整理番号：12A1236838

最密充填した金属表面上のC₆₀の構造と電子物性の研究

Survey of structural and electronic properties of C₆₀ on close-packed metal surfaces

著者 (3件)： SHI Xing-Qiang (City Univ. of Hong Kong, Dep. of Physics and Materials Sci., Hong Kong, CHN) ,  HOVE Michel A. (City Univ. of Hong Kong, Dep. of Physics and Materials Sci., Hong Kong, CHN) ,  ZHANG Rui-Qin (City Univ. of Hong Kong, Dep. of Physics and Materials Sci., Hong Kong, CHN)
資料名： Journal of Materials Science  (Journal of Materials Science)
巻： 47  号： 21  ページ： 7341-7355  発行年： 2012年11月 
JST資料番号： B0722A  ISSN： 0022-2461  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 金属表面へのバックミンスターフラーレン(C₆₀)の吸着は特異な幾何学的,電子的特性のため広く研究されてきた。表面上に形成した二次元系が結合と電子構造との相互作用の研究を可能とした。最近の研究からC₆₀の吸着は反応性の少ない最密充填金属表面でも再構築を誘導することを明らかにした。第一原理計算は詳細な原子構造だけでなく,基板-吸着物質相互作用の電子的性質も明らかにし,界面構造を調べ,理解するための種々の実験手法と比較可能である。本総説は金属表面上のC₆₀単層の秩序的相とC₆₀吸着による表面再構築を詳細に考察した。C₆₀分子と金属表面との対称性マッチングが局所的吸着様式を決定し,C₆₀分子と金属表面格子間の大きさのマッチングがスーパーセルサイズと形状を決定し,一つのスーパーセル内の表面金属原子数が再構築タイプを決定する。分子-金属界面の原子構造は単層の電子物性と輸送特性に重要であり,C₆₀-金属界面再構築と相対的なC₆₀配向間の電子構造のチューニングの観点から吸着構造について考察した。Copyright 2012 The Author(s) Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *フラーレンC60 ,  結晶構造 ,  充填 ,  表面 ,  金属 ,  *吸着 ,  計算 ,  ab initio法 ,  相互作用 ,  界面 ,  *表面再構成 ,  電子構造 ,  分子構造
準シソーラス用語： *界面相互作用 ,  *金属表面 ,  *最密充填 ,  *第一原理計算 ,  表面再構築

分類 (2件)： 固-固界面  (CB12060M) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (5件)： 最密充填 ,  金属表面 ,  C60 ,  電子物性 ,  研究