抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
電子部品の接点端子に用いられるNiめっき/Auシステムでは,下地Niめっきの腐食により接触抵抗の上昇が生じる問題がある。本研究においてはこの課題に対して,下地Niめっき(光沢Niめっき)に代えて,CuSn(スペキュラム)合金めっきの採用を提案した。めっき液として環境への調和を考慮し,スルホコハク酸およびポリオキシエチレン-α-ナフトール(POEN)を加えた硫酸銅および硫酸スズからなる溶液を開発した。めっき条件を変えることでCu-40~70mass%Sn合金下地層を形成し,その上にAuめっきを施した。これらのめっき層について電気抵抗率測定を実施した。この結果,提案したCu-Sn合金を下地層にすることで50nmの薄いAuめっきでも良好な電気伝導率を維持できることを明らかにし,Au層の薄肉化および環境に優しいめっきが可能となることを見出した。