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J-GLOBAL ID：201202257470831187   整理番号：12A1430888

無電解めっきとフォトレジストを用いた鏡の作成

著者 (3件)： 向井知大 (慶応大 自然科学研究教セ) ,  小畠りか (慶応大 自然科学研究教セ) ,  大場茂 (慶応大 自然科学研究教セ)
資料名： 慶應義塾大学日吉紀要 自然科学  (慶応義塾大学日吉紀要 自然科学)
号： 52  ページ： 19-35  発行年： 2012年09月30日 
JST資料番号： X0050A  ISSN： 0911-7237  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 無電解めっきとフォトレジストを組合わせることでデザイン入りの鏡を作成できることを目的に学生実験のテーマとして初学者にも簡単に作製できるように実験条件を検討した。実験手順は1)ガラス板の洗浄,脱脂,2)センシタイジング・アクチベーティング(センシ・アクチ)処理,3)無電解ニッケルめっき,4)200°C2分間ベーキング,5)フォトレジスト塗布,6)110°C2分間ベーキング,7)フォトマスク上から紫外線露光,8)現像,9)110°C2分間ベーキング,及び10)エッチングのプロセスで成される。2)のセンシ・アクチ処理は密着性を高めるために3回繰り返し行なう。3)の無電解めっき液に錯化剤を添加せずにガラス板の浸漬時間は3分とする。5)のフォトレジスト塗布はマグネチックスターラー使用のスピンコートで複数回塗布すると1μm厚みのレジスト膜が得られる。表面を平滑にするためにメラミンスポンジで軽く磨くこと。7)のフォトマスクのデザインに表裏があるものは露光の際,裏返しにして使用する。実験上の注意事項としてスピンコートは高速回転のため注意が必要である。また現像やエッチングは反応の様子を見ながら適切なタイミングでストップする。また保護メガネは必要であり,廃液回収にも注意する。

シソーラス用語： *無電解めっき ,  *フォトレジスト ,  *鏡 ,  実験 ,  *化学教育 ,  ニッケルめっき ,  めっき液 ,  塗布 ,  焼成
準シソーラス用語： 学生実験

分類 (2件)： 化学教育  (CA01050M) ,  無電解めっき  (WC08024S)

タイトルに関連する用語 (3件)： 無電解めっき ,  フォトレジスト ,  鏡