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J-GLOBAL ID:201202257571806248   整理番号:12A1500132

アルミニウムのインライン高速蒸着によるシリコン太陽電池への局所的後部接触

Local rear contacts to silicon solar cells by in-line high-rate evaporation of aluminum
著者 (5件):
資料名:
巻: 107  ページ: 272-282  発行年: 2012年12月 
JST資料番号: D0513C  ISSN: 0927-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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p型ウエハとホウ素拡散層を,不活性化酸化アルミニウムおよび窒化ケイ素スタックのレーザアブレーション,それに続くアルミニウムのインライン高速蒸着により接触させた。基底接触で0.5~3.8Ωcmの基底抵抗率に対して2.5×106~1.9×107fA/cm2,および23~86Ωcmのシート抵抗をもつホウ素拡散層への接触に対して,491~905fA/cm2の飽和電流密度を測定した。4×1015~3×1019cm-3の表面ドーピング密度をもつp型シリコンへのAl層の接触抵抗は,それぞれ4~0.1Ωcm2の範囲にあった。測定した接触特性は,高効率の「不活性化エミッタおよび後部セル」(PERC)ならびに「不活性化エミッタおよび後部完全拡散セル」(PERT)の作製を可能にした。数値シミュレーションは,前面でのスクリーン印刷接触と組合せた蒸着後部接触が,それぞれPERCおよびPERTに対して20.6%および21.1%のエネルギー変換効率を可能にすることを示した。模擬した自由エネルギー損失は,そのようなセルが後部側のインライン蒸着点接触により制限されないことを示した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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太陽電池  ,  半導体薄膜 
タイトルに関連する用語 (5件):
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