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J-GLOBAL ID:201202257578321681   整理番号:12A0644539

磁気インピーダンス素子製作のための微細加工技術の比較:リフトオフ法と湿式エッチング法

Comparison of Micro-Fabrication Routes for Magneto-Impedance Elements: Lift-Off and Wet-Etching
著者 (6件):
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巻: 48  号:ページ: 1601-1604  発行年: 2012年04月 
JST資料番号: A0339B  ISSN: 0018-9464  CODEN: IEMGAQ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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磁気インピーダンス素子のパターン生成に対する2種類のフォトリソグラフィー法を実際の適用結果に基いて比較した。まず,パターン化する磁気材料をシリコンウエハ上にスパッタリング堆積し,パーマロイと薄いチタン層を重ねた外側層と銅からなる非磁性中心層から構成された非常に優れた磁気インピーダンス特性を示す全厚1.31μmの3層磁性膜を生成し,その特性を極力損ねないようにパターン化する。リフトオフ法は,材料の堆積前にシリコンウエハ上にネガ型レジストを堆積してパターン化を行なう手法で,レジスト除去時に材料の不要部分が剥がされる。本手法を用いると,前記のような厚いフィルム対しても非常に高品質で優れた磁気インピーダンス特性の試料が得られる。一方,湿式エッチング法は,ポジ型レジストを用いる手法で,使用する部分がレジストによって保護されていない状態で酸によるエッチングが行われるため,化学的影響を受け易く,リフトオフ手法のような優れた性能が得られなかった。
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