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J-GLOBAL ID：201202258503374450   整理番号：12A0993833

光Lewis酸発生剤(PhLAG) B(C₆F₅)₃の制御された光放出

A Photo Lewis Acid Generator (PhLAG): Controlled Photorelease of B(C₆F₅)₃

著者 (5件)： KHALIMON Andrey Y. (Univ. Calgary, Alberta, CAN) ,  PIERS Warren E. (Univ. Calgary, Alberta, CAN) ,  BLACKWELL James M. (Intel Corp., Oregon, USA) ,  MICHALAK David J. (Intel Corp., Oregon, USA) ,  PARVEZ Masood (Univ. Calgary, Alberta, CAN)
資料名： Journal of the American Chemical Society  (Journal of the American Chemical Society)
巻： 134  号： 23  ページ： 9601-9604  発行年： 2012年06月13日 
JST資料番号： C0254A  ISSN： 0002-7863  CODEN： JACSAT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 3,6-ジ(tert-ブチル)カルバゾール(A)をn-ブチルリチウム,二酸化炭素,TMEDAとの反応によりN-カルバモイル-3,6-ジ(tert-ブチル)カルバゾール(B)の3-LiTMEDA塩とし,トリフェニルボランとの反応によりBのトリフェニルホウ素エステル]^-[トリフェニルスルホニウム]⁺イオン対を合成した。アセトニトリル中254nm紫外線照射によってトリフェニルホウ素が放出され,Bは脱炭酸によりAに戻ることを確かめた。BPh₃をLewis酸触媒としてTEOSと2,4,6,8-テトラメチルシクロテトラシロキサンのスピンコート膜の重合例を示した。

シソーラス用語： *光酸発生剤 ,  *Lewis酸 ,  Lewis酸触媒 ,  窒素複素環化合物 ,  ボラン誘導体 ,  光化学反応 ,  *光解離 ,  二酸化炭素 ,  イオン対 ,  化学合成 ,  紫外線照射 ,  脱炭酸 ,  *酸触媒反応 ,  *ポリシロキサン ,  スピンコーティング ,  有機リチウム化合物 ,  脂肪族アルコール ,  無機酸エステル
準シソーラス用語： カルバゾール誘導体 ,  *光Lewis酸発生剤

分類 (2件)： 光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A) ,  有機ほう素化合物  (CF08020R)

物質索引 (7件)： n-ブチルリチウム ,  TEOS ,  TMEDA ,  トリフェニルスルホニウム ,  トリフェニルボラン ,  [(3,6-ジ-tert-ブチル-9H-カルバゾール-9-イル)カルボニルオキシ]トリス(ペンタフルオロフェニル)ほう素アニオン ,  2,4,6,8-テトラメチルシクロオクタンテトラシロキサン

タイトルに関連する用語 (2件)： Lewis酸 ,  光放出