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J-GLOBAL ID：201202258671891540   整理番号：12A0884286

ヒドロゲル上へのナノメートル又はミクロン寸法のパターン製作

Fabrication of nano- or micro-meter scale pattern on hydrogels

著者 (11件)： SHIMAMOTO Naonobu (Riken, Wako, JPN) ,  SHIMAMOTO Naonobu (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  MITOMO Hideyuki (Riken, Wako, JPN) ,  MITOMO Hideyuki (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  KAWAMURA Ryu-zo (Riken, Wako, JPN) ,  KISHI Ryo-ichi (AIST, Tukuba, JPN) ,  TANAKA Yoshito (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  SASAKI Keiji (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  IJIRO Kuniharu (Riken, Wako, JPN) ,  IJIRO Kuniharu (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  OSADA Yoshihito (Riken, Wako, JPN)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 61  号： 1  ページ： ROMBUNNO.1M21  発行年： 2012年05月15日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： ケト酸 ,  ジカルボン酸 ,  脂肪族カルボン酸 ,  脂肪族ケトン ,  *アクリル樹脂 ,  *ヒドロゲル ,  ナノ構造 ,  *パターン形成 ,  周期構造 ,  金属薄膜 ,  ビニル化合物 ,  不飽和カルボン酸 ,  フォトニック結晶 ,  *フォトニックデバイス ,  ケトグルタル酸類 ,  ミクロパターン形成
準シソーラス用語： オキソグルタル酸 ,  微細パターン形成

分類 (3件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  その他の固体デバイス  (NC03150A) ,  アクリル樹脂  (YH07110K)

物質索引 (2件)： N,N′-メチレンビスアクリルアミド ,  アクリル酸

タイトルに関連する用語 (2件)： ヒドロゲル ,  製作