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J-GLOBAL ID：201202258674636150   整理番号：12A0528733

薄膜太陽電池のコロイドリソグラフィによって形成されたサブ波長表面構造の反射防止と光トラッピング

Antireflection and light trapping of subwavelength surface structures formed by colloidal lithography on thin film solar cells

著者 (4件)： TSENG Ping-Chen (National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN) ,  TSAI Min-An (National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN) ,  YU Peichen (National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN) ,  KUO Hao-Chung (National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
資料名： Progress in Photovoltaics  (Progress in Photovoltaics)
巻： 20  号： 2  ページ： 135-142  発行年： 2012年03月 
JST資料番号： W0463A  ISSN： 1062-7995  CODEN： PPHOED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 薄膜太陽電池の効率を上げるための表面ナノ構造を提案している。大面積の製造に適用可能である自己組織化ポリスチレン球を用いて作製した周期的なナノアイランドで構成される表面は,反射を抑制し,光を閉じ込める前方回折を起こす。計算機シミュレーションにより,0.3~0.7μmの短波長領域の反射率性能が,単層の反射防止コーティングの場合より向上することを示している。シリコンの厚さ2-μmの太陽電池のシミュレーションにより最適化した構造は,TiO₂のナノアイランドの直径が740nm,高さ370μmであり,短絡電流密度は25 mA/cm²となった。これはベアシリコンのそれに比べて76.9%向上している。

シソーラス用語： *太陽電池 ,  *表面構造 ,  防止 ,  回折 ,  *電流密度 ,  エネルギー効率 ,  リソグラフィー ,  最適化 ,  計算機シミュレーション ,  テキスチャード加工
準シソーラス用語： テクスチャリング ,  *短絡電流密度 ,  *薄膜太陽電池 ,  反射防止

分類 (4件)： 太陽エネルギー  (LB03030Q) ,  太陽光発電  (NB03090G) ,  太陽エネルギー利用機器  (QE05020H) ,  太陽電池  (NC03084O)

タイトルに関連する用語 (6件)： 薄膜太陽電池 ,  コロイドリソグラフィ ,  サブ波長 ,  表面構造 ,  反射防止 ,  光トラッピング