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J-GLOBAL ID：201202258778467210   整理番号：12A1507179

酸性pH条件下SIMFUEL(UO₂)上での過酸化水素の電気化学的還元

Electrochemical reduction of hydrogen peroxide on SIMFUEL (UO₂) in acidic pH conditions

著者 (4件)： RAZDAN Mayuri (Dep. of Chemistry, Western Univ., 1151 Richmond Road, London, ON, Canada N6A 5B7) ,  HALL David S. (Dep. of Chemistry, Western Univ., 1151 Richmond Road, London, ON, Canada N6A 5B7) ,  KEECH Peter G. (Dep. of Chemistry, Western Univ., 1151 Richmond Road, London, ON, Canada N6A 5B7) ,  SHOESMITH David W. (Dep. of Chemistry, Western Univ., 1151 Richmond Road, London, ON, Canada N6A 5B7)
資料名： Electrochimica Acta  (Electrochimica Acta)
巻： 83  ページ： 410-419  発行年： 2012年11月30日 
JST資料番号： B0535B  ISSN： 0013-4686  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： この研究の目的は,pH範囲1~4での1.5at.% SIMFUEL回転ディスク電極上でH₂O₂濃度範囲での電気化学的還元を調べることである。過酸化水素の還元メカニズムは,U^IV_1-2xU^V_2xO_2+x成分のU^V含有表面層上あるいは,溶液pHとH₂O₂濃度で測定された表面成分に依存する吸着U^V含有表面中間体上のいずれかで起こるということで解決する。U^IV_1-2xU^V_2xO_2+x触媒表面格子層は,もし形成されるとしたら,安定で,回転ディスク研究は,この表面上でのH₂O₂還元は十分負な過電圧で拡散律速限界を達成することを示した。しかしながら,吸着U^V含有表面中間体は不安定で,その元々の状態,すなわち,UO₂への電気化学的還元,あるいは,UO₂²⁺として溶解するのに先立ってU^VIへの化学的酸化によって,破壊される可能性がある。この表面中間体の不安定性は,際立ったH₂O₂還元を阻止し,拡散律速限界より低い電流を生じるその利点を制限する。両還元メカニズムの存在は局部的に確定された表面成分の影響を実証し,一方から他方への切り換えは,表面拡散条件およびバルクpHとH₂O₂濃度によって制御されるように見える。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化ウラン ,  *過酸化水素 ,  *酸性 ,  円盤電極 ,  *カソード還元 ,  *pH依存性 ,  *表層 ,  *反応機構 ,  *吸着 ,  反応中間体 ,  *電極触媒 ,  過電圧 ,  拡散律速 ,  表面反応 ,  核燃料
準シソーラス用語： *二酸化ウラン ,  回転ディスク電極 ,  *表面層

分類 (4件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  核燃料の基礎的性質  (MD08020V) ,  界面化学一般  (CB12010J)

タイトルに関連する用語 (5件)： 酸性 ,  pH ,  UO2 ,  過酸化水素 ,  電気化学的還元