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J-GLOBAL ID：201202259658169930   整理番号：12A1211986

オキソラン-キトサン-ポリウレタン(OXO-CHI-PUR)ネットワークのUV-開始自己修復

UV-initiated self-healing of oxolane-chitosan-polyurethane (OXO-CHI-PUR) networks

著者 (3件)： GHOSH Biswajit (Univ. Southern Mississippi, MS, USA) ,  CHELLAPPAN Kishore V. (Univ. Southern Mississippi, MS, USA) ,  URBAN Marek W. (Univ. Southern Mississippi, MS, USA)
資料名： Journal of Materials Chemistry  (Journal of Materials Chemistry)
巻： 22  号： 31  ページ： 16104-16113  発行年： 2012年08月21日 
JST資料番号： W0204A  ISSN： 0959-9428  CODEN： JMACEP  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリウレタン(PUR)ネットワークへ組込まれたオキソラン(OXO)-キトサン(CHI)マクロモノマーの存在により自己修復は容易になるが,オキセタン-CHI-PURネットワークに比べて遅いことが分かった。これは環の歪が修復過程の時間スケールにある役割を果たしていることを示している。機械的損傷はスクラッチ内の小さいフラグメントを生成することによりネットワークのガラス転移温度(T_gを低下させ,紫外線曝露すると修復過程での架橋反応によりスクラッチ内のT_gは上昇する。ヒンダードアミン光安定剤(HALS)の存在は修復過程を遅延するが,OXO含有量が高いと遅い速度が相殺されるが,OXOの開環及びCHIの骨格のグリコシン単位の椅子形からボート形への立体配座変化と共にフリーラジカルPUAからPURへの転換が自己修復過程の原因である。

シソーラス用語： *環状エーテル ,  *キトサン ,  *ポリウレタン ,  *ネットワーク構造 ,  紫外線 ,  *紫外線照射 ,  *回復 ,  *修理 ,  損傷 ,  ガラス転移点 ,  架橋【高分子】 ,  HALS ,  開環反応 ,  *配座転移 ,  ラジカル ,  赤外吸収スペクトル ,  DRIFT法 ,  Ramanスペクトル ,  内部反射 ,  炭素13NMR ,  CP-MASNMR ,  熱機械分析 ,  原子間力顕微鏡 ,  マクロモノマ
準シソーラス用語： マクロマ ,  *自己修復 ,  スクラッチ ,  ガラス転移温度 ,  架橋反応 ,  ヒンダードアミン光安定剤 ,  *立体配座変化 ,  フリーラジカル ,  FTIRスペクトル

分類 (3件)： 高分子の分解,劣化  (CG03010A) ,  フラン  (CF07072V) ,  多糖類  (CF10054P)

物質索引 (2件)： オキソラン ,  オキセタン

タイトルに関連する用語 (4件)： オキソラン ,  キトサン ,  ポリウレタン ,  自己修復