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J-GLOBAL ID:201202259808356229   整理番号:12A0643318

キラルらせん高分子配位子PQXphosを用いたPd触媒不斉ヒドロシリル化反応

著者 (5件):
資料名:
巻: 92nd  号:ページ: 1425  発行年: 2012年03月09日 
JST資料番号: S0493A  ISSN: 0285-7626  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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キラルらせん高分子配位子PQXphosは主鎖のらせん不斉を溶媒で制御することができる。左右それぞれのらせんキラリティーを誘起したPQXphosを用い様々なスチレン誘導体のPd触媒不斉ヒドロシリル化反応を行った。右巻き・左巻きどちらの配位子を用いても高いエナンチオ選択性で反応が進行し,それぞれS体・R体の生成物を最高98%eeで得た。また反応系中からの生成物の抽出方法を検討し,高分子触媒の性能の低下を伴うことなく8回の再利用を行った。(著者抄録)
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分類 (1件):
分類
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付加反応,脱離反応 
タイトルに関連する用語 (5件):
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