TCHOUL Maxim N. について
Materials and Manufacturing Directorate, Air Force Res. Lab., 2943 Hobson Way, Wright-Patterson AFB, OH 45433, USA について
DALTON Matthew について
Materials and Manufacturing Directorate, Air Force Res. Lab., 2943 Hobson Way, Wright-Patterson AFB, OH 45433, USA について
DALTON Matthew について
General Dynamics Information Technol., 5100 Springfield Pike, Dayton, OH 45431, USA について
TAN Loon-seng について
Materials and Manufacturing Directorate, Air Force Res. Lab., 2943 Hobson Way, Wright-Patterson AFB, OH 45433, USA について
DONG Hongchen について
Dep. of Chemistry, Carnegie Mellon Univ., 4400 Fifth Ave, Pittsburgh, PA 15213, USA について
HUI Chin Ming について
Dep. of Chemistry, Carnegie Mellon Univ., 4400 Fifth Ave, Pittsburgh, PA 15213, USA について
MATYJASZEWSKI Krzysztof について
Dep. of Chemistry, Carnegie Mellon Univ., 4400 Fifth Ave, Pittsburgh, PA 15213, USA について
VAIA Richard A. について
Materials and Manufacturing Directorate, Air Force Res. Lab., 2943 Hobson Way, Wright-Patterson AFB, OH 45433, USA について
Polymer について
ナノ複合材料 について
ナノ粒子 について
高分子有機-無機ハイブリッド について
原子移動ラジカル重合 について
グラフト共重合 について
グラフト共重合体 について
ポリスチレン について
サイズ排除クロマトグラフィー について
重合開始剤 について
遠心分離 について
芳香族炭化水素 について
ビニル化合物 について
二酸化ケイ素 について
コアシェル構造 について
シリカ について
重合触媒,重合開始剤 について
物理的性質一般 について
2-ブロモイソ酪酸3-(クロロジメチルシリル)プロピル について
シリカ について
ナノ粒子 について
グラフト について
ポリスチレン について
画分 について
増強 について