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J-GLOBAL ID：201202260645229320   整理番号：12A0094937

フルホイスラーCoFeAlSi合金粒状膜の大きなトンネル磁気抵抗

Large Tunnel Magnetoresistance of Full-Heusler CoFeAlSi Alloy Granular Films

著者 (4件)： KONDO Michiaki (Daido Univ., Nagoya, JPN) ,  CHINO Takuro (Daido Univ., Nagoya, JPN) ,  FUJIWARA Yuji (Mie Univ., Tsu, JPN) ,  JIMBO Mutsuko (Daido Univ., Nagoya, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 50  号： 12  ページ： 123001.1-123001.3  発行年： 2011年12月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フルホイスラーCoFeAlSi(CFAS)-Al₂O₃粒状膜のトンネル磁気抵抗(TMR)と構造が研究された。膜の大半が673Kでアニール後の不連続層内に有る事が発見された。約18%の最大MR比が8kOeの磁界のもとの室温で得られた。膜のX線回折パターンが約45°のCFAS(220)及び又はMgO(200)の弱いピーク,そして20-30°の範囲に2つのピークを持つhalo状パターンを示した。これらの結果は観察された高MR比が高スピン分極による粒の存在に関係する事を提案する。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ホイスラー合金 ,  *磁気抵抗 ,  *コバルト合金 ,  鉄含有合金 ,  アルミニウム含有合金 ,  ケイ素含有合金 ,  スパッタ蒸着 ,  *酸化アルミニウム ,  熱処理 ,  X線回折 ,  蒸着膜 ,  *多層膜 ,  *酸化マグネシウム
準シソーラス用語： *トンネル磁気抵抗

分類 (1件)： その他の無機化合物の電気伝導  (BM03044O)

引用文献 (27件)：

• 1) S. Mitani, H. Fujimori, K. Takanashi, K. Yakushiji, J.-G. Ha, S. Takahashi, S. Maekawa, S. Ohnuma, N. Kobayashi, T. Masumoto, M. Ohnuma, and K. Hono: J. Magn. Magn. Mater. 198-199 (1999) 179.
• 2) N. Kobayashi, S. Ohnuma, S. Murakami, T. Masumoto, S. Mitani, and H. Fujimori: J. Magn. Magn. Mater. 188 (1998) 30.
• 3) S. Mitani, S. Takahashi, K. Takanashi, K. Yakushiji, S. Maekawa, and H. Fujimori: Phys. Rev. Lett. 81 (1998) 2799.
• 4) K. Yakushiji, S. Mitani, K. Takanashi, S. Takahashi, S. Maekawa, H. Imamura, and H. Fujimori: Appl. Phys. Lett. 78 (2001) 515.
• 5) K. Yakushiji, F. Ernult, H. Imamura, K. Yamane, S. Mitani, K. Takanashi, S. Takahashi, S. Maekawa, and H. Fujimori: Nat. Mater. 4 (2005) 57.

タイトルに関連する用語 (2件)： 合金 ,  トンネル磁気抵抗