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J-GLOBAL ID：201202260921170466   整理番号：12A1754296

リプレイスメントゲート統合スキームに対するポリシリコン湿式除去: 除去率に対する処理パラメータの影響

Poly-Silicon Wet Removal for Replacement Gate Integration Scheme: Impact of Process Parameters on the Removal Rate

著者 (9件)： SEBAAI Farid (IMEC, Heverlee, BEL) ,  VELOSO Anabela (IMEC, Heverlee, BEL) ,  CLAES Martine (IMEC, Heverlee, BEL) ,  DEVRIENDT Katia (IMEC, Heverlee, BEL) ,  BRUS Stephan (IMEC, Heverlee, BEL) ,  ABSIL Philippe (IMEC, Heverlee, BEL) ,  MERTENS Paul (IMEC, Heverlee, BEL) ,  DE GENDT Stefan (IMEC, Heverlee, BEL) ,  DE GENDT Stefan (KU Leuven, Leuven, BEL)
資料名： Diffusion and Defect Data Part B. Solid State Phenomena  (Diffusion and Defect Data Part B. Solid State Phenomena)
巻： 187  ページ： 53-56  発行年： 2012年 
JST資料番号： T0583A  ISSN： 1012-0394  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (5件)： 統合 ,  スキーム ,  ポリシリコン ,  除去率 ,  パラメータ