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J-GLOBAL ID：201202261536490030   整理番号：12A0785051

表面上に周期的ドットを作製するための不純物の同時蒸着を用いたイオン駆動エッチングの能力

The potential of ion-driven etching with simultaneous deposition of impurities for inducing periodic dots on surfaces

著者 (2件)： KOKKORIS George (National Center for Scientific Res. ’Demokritos’, Athens, GRC) ,  GOGOLIDES Evangelos (National Center for Scientific Res. ’Demokritos’, Athens, GRC)
資料名： Journal of Physics. D. Applied Physics  (Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻： 45  号： 16  ページ： 165204,1-9  発行年： 2012年04月25日 
JST資料番号： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 試料周辺,反応炉壁,あるいはプラズマのバルク中から出る不純物がエッチングを抑制する原因となり,それらの同時蒸着下でのイオン増強化学エッチング,あるいは,物理的スパッタリング,あるいは,イオンビームスパッタリングなどによって,異方的エッチングを行うことができる。本研究では,このイオン駆動同時蒸着法を使ったエッチングによる,エッチング表面上の周期的ドットの形成について調べた。実験結果から,シャドウイング成長および蒸着から派生する概念を,異方的エッチングにまで拡張して,周期性を発現する機構を提案した。モンテカルロ法を用いて表面モルフォロジー発展をシミュレートすることにより,周期性を導く特定の条件,すなわち周期性のウィンドウを調べた。その結果,基板のエッチ抑制剤に対するエッチング選択性が低いこと,および,到達したフラックス中のエッチ抑制剤の一部がエッチ特性に影響することを見出した。また,エッチ抑制剤の付着確率が高いほど,周期的ドットが形成され易くなることもわかった。

シソーラス用語： *周期構造 ,  不純物 ,  *エッチング ,  同時蒸着 ,  イオンビームスパッタリング ,  モンテカルロ法 ,  表面構造 ,  *網点
準シソーラス用語： 表面モルフォロジー ,  *ドット

分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  試料技術  (BA02070O)

タイトルに関連する用語 (7件)： ドット ,  作製 ,  不純物 ,  同時蒸着 ,  イオン ,  エッチング ,  能力