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J-GLOBAL ID:201202261763634537   整理番号:12A0098052

RF反応性マグネトロン同時スパッタリングにより成長させたCdドープSnO2薄膜の構造的,光学的及び電気的特性

Structural, optical and electrical properties of Cd-doped SnO2 thin films grown by RF reactive magnetron co-sputtering
著者 (7件):
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巻: 258  号:ページ: 2459-2463  発行年: 2012年01月15日 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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透明導電SnO2:Cd薄膜を,CdOをカドミウム源とし,500°Cの基板温度でガラススライド上にRF反応性マグネトロン同時スパッタリングにより作製した。膜は,アルゴン/酸素の混合雰囲気中で堆積した。構造的,光学的及び電気的特性をターゲット中のCd量の関数として分析した。X線回折は,SnO2の正方晶系と斜方晶系の双方の相の多結晶膜が成長したことを示した。得られた膜は,高い透明度と導電性を有した。SnO2膜の性能指数は10-3Ω-1の桁で,これらの膜が透明電極候補とみなすことができた。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
分類
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酸化物薄膜  ,  光物性一般  ,  半導体結晶の電気伝導 

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