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J-GLOBAL ID：201202262106839800   整理番号：12A0346738

外部からの圧力下における完全ケイ素ゼオライトZSM-5の挙動の研究

An Investigation of the Behavior of Completely Siliceous Zeolite ZSM-5 under High External Pressures

著者 (3件)： FU Yueqiao (Univ. Western Ontario, Ontario, CAN) ,  SONG Yang (Univ. Western Ontario, Ontario, CAN) ,  HUANG Yining (Univ. Western Ontario, Ontario, CAN)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 116  号： 3  ページ： 2080-2089  発行年： 2012年01月26日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 調製したままのものと仮焼したSi-ZSM-5を,16GPaまでの圧力範囲でダイヤモンドアンビルセルを用いて加圧し,Raman分光法とシンクロトロン放射X線回折装置で分析した。結晶質ゼオライトは3GPa付近で低密度非晶質(LDA)シリカへの相転移を開始する。3から7GPaではSi-ZSM-5とLDAシリカが共存する。圧力の増大とともにLDAシリカの量が増加する。LDA相ではMFI分子配列は保持される。7GPa以下の処理サンプルでは圧力が誘発する非晶化(PIA)は完全に可逆的である。7GPa付近でLDA相は高密度非晶質(HDA)相に変化し始める。仮焼サンプルの方がPIAの圧力は低く,このことは仮焼したものが鋳型分子を持っていることによると考えられる。

シソーラス用語： *ZSM-5 ,  Ramanスペクトル ,  X線回折 ,  *相転移 ,  走査電子顕微鏡 ,  アモルファス化 ,  合成ゼオライト ,  *圧力効果 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  シンクロトロン放射光X線回折 ,  非晶質シリカ ,  MFIゼオライト

分類 (2件)： 合成鉱物  (CD01040K) ,  吸着剤  (YB03000W)

タイトルに関連する用語 (5件)： ケイ素 ,  ゼオライト ,  ZSM-5 ,  挙動 ,  研究