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J-GLOBAL ID：201202262193416103   整理番号：12A0868986

指数関数的に成長する高分子電解質多層中で活性酵素を保持するための(PSS-PAH)_nあるいは(PSS-PDADMAC)_n膜の代替としてのプラズマポリマー膜

Plasma polymer films as an alternative to (PSS-PAH) _n or (PSS-PDADMAC) _n films to retain active enzymes in exponentially growing polyelectrolyte multilayers

著者 (6件)： AMOROSI Cedric (Advanced Materials and Structures, Centre de Rech. Public Henri Tudor, 66 rue de Luxembourg, L-4002 ...) ,  MICHEL Marc (Advanced Materials and Structures, Centre de Rech. Public Henri Tudor, 66 rue de Luxembourg, L-4002 ...) ,  AVEROUS Luc (LIPHT-ECPM, Lab. d’Ingenierie des Polymeres pour les Hautes Technologies, EAc(CNRS), 4379, Univ. de Strasbourg, 25 ...) ,  TONIAZZO Valerie (Advanced Materials and Structures, Centre de Rech. Public Henri Tudor, 66 rue de Luxembourg, L-4002 ...) ,  RUCH David (Advanced Materials and Structures, Centre de Rech. Public Henri Tudor, 66 rue de Luxembourg, L-4002 ...) ,  BALL Vincent (Advanced Materials and Structures, Centre de Rech. Public Henri Tudor, 66 rue de Luxembourg, L-4002 ...)
資料名： Colloids and Surfaces. B. Biointerfaces  (Colloids and Surfaces. B. Biointerfaces)
巻： 97  ページ： 124-131  発行年： 2012年09月01日 
JST資料番号： W0541A  ISSN： 0927-7765  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 緻密で線形に成長する高分子電解質多層膜を使用して,下にある高分子電解質多層膜からの薬剤,ナノ粒子あるいは蛋白質の脱着を抑制し,その機械特性を大きく変化させた。高分子電解質ベースのキャッピング層は,しかしながらデポジットしにくく,膜中での酵素保持および小さな分子,例えば埋め込まれた酵素の基体への透過性を提供する代替バリア層が非常に望まれている。この論文では,エチレングリコールジメタクリレートの大気圧誘電バリア放電重合によって作製されたバリア層が,下にある高分子電解質多層膜からの酵素脱着を抑制し,同時に酵素基体の接近容易性を保証するための機会を提供することを示した。このことは,バリア膜が下にある膜をすっかり被覆し厚過ぎない場合にあてはまった。プラズマデポジットバリアが300nm厚みになると,酵素の加水分解曲線は典型的な拡散-制限プロセスの遅延相を示した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *高分子電解質 ,  *多層膜 ,  *酵素活性度 ,  ポリスチレンスルホン酸 ,  *高分子薄膜 ,  被覆層 ,  放電重合 ,  *プラズマCVD ,  ポリジアリルジメチルアンモニウムクロリド
準シソーラス用語： バリア層

分類 (1件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (9件)： 指数関数 ,  成長 ,  高分子電解質 ,  多層 ,  活性 ,  酵素 ,  代替 ,  プラズマ ,  ポリマー膜