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J-GLOBAL ID：201202262321324136   整理番号：12A0292493

二層Sb/SnO₂をパルスUVレーザでアニーリングして透明導電性Sn/Sb-O₂薄膜を作製

Preparing transparent conductive Sn/Sb-O_2-x thin films by annealing bi-layer Sb/SnO₂ with pulse UV laser

著者 (5件)： WANG Chun-min ,  HUANG Chun-chieh ,  KUO Jui-chao ,  LIN Hao-tung ,  HUANG Jow-lay
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 72  ページ： 29-31  発行年： 2012年04月01日 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Sb/SnO₂二層膜をガラス基板にイオンビームスパッタリング堆積(IBSD)と高周波(RF)マグネトロンスパッタリング堆積法で作製した。微妙な転移が期待される特性変調のため,堆積させた二層膜に355nmのパルス紫外(UV)レーザを照射した。膜の光学的,電気的挙動と化学的状態へのレーザ照射による影響をX線光電子分光(XPS)で調べた。レーザ照射後のSb/SnO₂の導電率はSnO₂と蒸着したままのSb/SnO₂薄膜と比べて増加した。レーザ照射したSb/SnO₂の光透過率は41%から47%へ増加した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *アンチモン ,  *酸化スズ ,  *多層膜 ,  *蒸着膜 ,  透明材料 ,  *酸化アンチモン ,  スパッタ蒸着 ,  マグネトロンスパッタリング ,  RFスパッタリング ,  *パルスレーザ ,  *紫外レーザ ,  熱処理 ,  *レーザ加熱 ,  電気伝導率 ,  透過率 ,  光透過 ,  基板 ,  レーザ照射
準シソーラス用語： ガラス基板 ,  光透過率 ,  *二層膜

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (10件)： 二層 ,  Sb ,  パルス ,  UVレーザ ,  アニーリング ,  導電性 ,  Sn ,  O2 ,  薄膜 ,  作製