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J-GLOBAL ID：201202262639654984   整理番号：12A0104230

マイクロ波支援ゾル-ゲル法による超疎水性シリカナノ粒子の作製

Preparation of superhydrophobic silica nanoparticles by microwave assisted sol-gel process

著者 (5件)： SANTIAGO A. (Univ. of the Basque Country, Dep. of Polymer Sci. and Technol. and Inst. for Polymer Materials (POLYMAT), P.O. Box ...) ,  GONZALEZ A. (Univ. of the Basque Country, Dep. of Polymer Sci. and Technol. and Inst. for Polymer Materials (POLYMAT), P.O. Box ...) ,  IRUIN J. J. (Univ. of the Basque Country, Dep. of Polymer Sci. and Technol. and Inst. for Polymer Materials (POLYMAT), P.O. Box ...) ,  FERNANDEZ-BERRIDI M. J. (Univ. of the Basque Country, Dep. of Polymer Sci. and Technol. and Inst. for Polymer Materials (POLYMAT), P.O. Box ...) ,  IRUSTA L. (Univ. of the Basque Country, Dep. of Polymer Sci. and Technol. and Inst. for Polymer Materials (POLYMAT), P.O. Box ...)
資料名： Journal of Sol-Gel Science and Technology  (Journal of Sol-Gel Science and Technology)
巻： 61  号： 1  ページ： 8-13  発行年： 2012年01月 
JST資料番号： W0812A  ISSN： 0928-0707  CODEN： JSGTEC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 超疎水性シリカナノ粒子を二段階プロセスを用いたマイクロ波支援ゾル-ゲル法により得た。第一段階では異なる大きさのシリカ粒子をオルトケイ酸テトラエチルから作製し,第二段階でシリカ粒子をヘキサデシルトリメトキシシラン(HDTMOS)を用いて疎水化した。マイクロ波照射下で,高い転換度が比較的短い反応時間で得られた。シリカナノ粒子をコーティングする代わりに第二段階で添加したHDTMOSは新しいものを生成し,このため最終生成物は2モードのサイズ分布を示した。全ての合成したナノ粒子は高い水接触角(約150°)と低いヒステリシス値を示した。Copyright 2011 Springer Science+Business Media, LLC Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ナノ粒子 ,  *疎水性 ,  *化学合成 ,  *ゾル-ゲル法 ,  接触角 ,  水 ,  脂肪族アルコール ,  無機酸エステル ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  *マイクロ波支援ゾル-ゲル法 ,  *超疎水性

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

物質索引 (2件)： オルトけい酸テトラエチル ,  ヘキサデシルトリメトキシシラン

タイトルに関連する用語 (6件)： マイクロ波 ,  支援 ,  ゾル-ゲル法 ,  超疎水性 ,  シリカナノ粒子 ,  作製