文献

J-GLOBAL ID：201202263180311864   整理番号：12A1729429

シンクロトロン放射によるシリカ系膜の効果的改質

Effective Modification in Silica-Based Films by Synchrotron Radiation

著者 (5件)： MORIWAKI K. (Kobe Univ.) ,  HARAGUCHI T. (Kobe Univ.) ,  KANDA K. (Univ. Hyogo) ,  MATSUI S. (Univ. Hyogo) ,  WATANABE K. (NTT)
資料名： LASTI Annual Report  (LASTI Annual Report)
巻： 13  ページ： 67-68  発行年： 2012年10月 
JST資料番号： L4711A  ISSN： 2189-6909  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： NewSUBARUのアンジュレータ放射(UR)又はシンクロトロン放射を用いて,光導波路素子用のシリカ系膜の屈折率を修飾した。照射した試料は10^-2台の大きな屈折率変化を示した。屈折率変化の主な原因として,照射で誘起したガラス中の欠陥を光吸収測定により調べた。ピークエネルギー50keV又は60keVのURは,80keV又は100keVピークよりも効果的にGeO₂ドープSiO₂膜中に欠陥を誘起した。従って,欠陥は表面から200nm以内に集中することが分かった。

シソーラス用語： シンクロトロン放射 ,  X線照射 ,  *屈折率 ,  エネルギー依存性 ,  照射損傷 ,  *格子欠陥 ,  薄膜 ,  *光導波路 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  *照射欠陥 ,  アンジュレータ放射

分類 (2件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (3件)： シンクロトロン放射 ,  シリカ ,  改質