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J-GLOBAL ID：201202264012895660   整理番号：12A1450993

気相における界面活性剤の自己集合 ビス(2-エチルヘキシル)スルホスクシナート二価イオンアニオン性凝集体

Surfactant self-assembling in the gas phase: bis(2-ethylhexyl)-sulfosuccinate divalent metal ion anionic aggregates

著者 (3件)： GIORGI Gianluca (Universita degli Studi di Siena, Siena, ITA) ,  CERAULO Leopoldo (Universita degli Studi di Palermo, Palermo, ITA) ,  LIVERI Vincenzo Turco (Universita degli Studi di Palermo, Palermo, ITA)
資料名： Rapid Communications in Mass Spectrometry  (Rapid Communications in Mass Spectrometry)
巻： 26  号： 19  ページ： 2260-2266  発行年： 2012年10月15日 
JST資料番号： T0695A  ISSN： 0951-4198  CODEN： RCMSEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 気相での界面活性体凝集体内への溶質の包接について調べるために,ビス(2-エチルヘキシル)スルホスクシナート二価イオンアニオン性凝集体について,エレクトロスプレイイオン化タンデム質量分析-高分解能質量分析を用いて調べた。特に凝集過程に対する二価金属イオンおよび負電荷の影響,生成する凝集体の種類,化学量論について調べた。CaおよびMnイオンを含有する凝集体が最も安定性が高く,Niを含む凝集体の安定性が最も低かった。分解経路では,ラジカルアニオン[C₄HO₆SM(II)Cl]^-・が生成することがわかった。

シソーラス用語： *自己集合 ,  *気相反応 ,  凝集体 ,  マグネシウム錯体 ,  カルシウム錯体 ,  マンガン錯体 ,  ニッケル錯体 ,  *エレクトロスプレイイオン化質量分析 ,  タンデム質量分析 ,  凝集 ,  安定性 ,  衝突誘起解離 ,  フラグメンテーション ,  *金属錯体
準シソーラス用語： エレクトロスプレイイオン化タンデム質量分析

分類 (3件)： 分子化合物  (CE02000C) ,  配位化合物一般  (CE01010G) ,  有機化合物の物理分析  (CC03034A)

物質索引 (1件)： スルホこはく酸ビス(2-エチルヘキシル)

タイトルに関連する用語 (8件)： 気相 ,  界面活性剤 ,  自己集合 ,  ビス ,  ヘキシル ,  イオン ,  アニオン性 ,  凝集体