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J-GLOBAL ID：201202264106235699   整理番号：12A1038084

共スパッタチタン酸バリウムストロンチウム薄膜における熱処理と鉄ドーピングの影響

Effects of thermal processing and iron doping in co-sputtered barium strontium titanate thin films

著者 (13件)： STEMME F. (Karlsruher Inst. fuer Technol., Inst. fuer Angewandte Materialien-Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT) ...) ,  STEMME F. (Universitaet Freiburg, Inst. fuer Mikrosystemtechnik (IMTEK), Georges-Koehler-Allee 102, 79110, Freiburg, DEU) ,  BRUNS M. (Karlsruher Inst. fuer Technol., Inst. fuer Angewandte Materialien-Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT) ...) ,  BRUNS M. (Karlsruher Inst. fuer Technol., Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, 76344 ...) ,  GESSWEIN H. (Karlsruher Inst. fuer Technol., Inst. fuer Angewandte Materialien-Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT) ...) ,  SCHROEDER M. (Karlsruher Inst. fuer Technol., Inst. fuer Angewandte Materialien-Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT) ...) ,  SAZEGAR M. (Technische Universitaet Darmstadt, Inst. fuer Mikrowellentechnik und Photonik, Merckstrasse 25, 64283, Darmstadt, DEU) ,  DRAHUS M. D. (Universitaet Freiburg, Inst. fuer Physikalische Chemie I, Albertstrasse 21, 79104, Freiburg, DEU) ,  EICHEL R.-A. (Karlsruher Inst. fuer Technol., Inst. fuer Angewandte Materialien-Energiespeichersysteme (IAM-ESS) ...) ,  PAUL F. (Universitaet Freiburg, Inst. fuer Mikrosystemtechnik (IMTEK), Georges-Koehler-Allee 102, 79110, Freiburg, DEU) ,  HAUSSELT J. (Karlsruher Inst. fuer Technol., Inst. fuer Angewandte Materialien-Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT) ...) ,  HAUSSELT J. (Universitaet Freiburg, Inst. fuer Mikrosystemtechnik (IMTEK), Georges-Koehler-Allee 102, 79110, Freiburg, DEU) ,  BINDER J. R. (Karlsruher Inst. fuer Technol., Inst. fuer Angewandte Materialien-Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT) ...)
資料名： Journal of Materials Science  (Journal of Materials Science)
巻： 47  号： 19  ページ： 6929-6938  発行年： 2012年10月 
JST資料番号： B0722A  ISSN： 0022-2461  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 熱加工や鉄のドーピングが共スパッタしたRFマグネトロンチタン酸バリウムストロンチウム薄膜の特性に及ぼす影響を検討した。X線回折とラマン分光法を使用して,アニーリング温度と鉄のドーパントの量の関数として薄膜の構造の発達を測定した。X線光電子分光法と電子常磁性共鳴分光法を用いて化学結合状態と欠陥構造に関する情報を得た。鉄のアクセプタドーピングに起因する品質係数Qの向上および誘電率と可同調性の減少を報告した。Copyright 2012 Springer Science+Business Media, LLC Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： ストロンチウム化合物 ,  *チタン酸塩 ,  バリウム化合物 ,  *誘電体 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  *鉄 ,  *ドーピング ,  *誘電体薄膜 ,  *熱処理 ,  焼なまし ,  化学結合 ,  欠陥 ,  係数 ,  品質特性 ,  誘電率 ,  同調 ,  誘電性 ,  マイクロ波
準シソーラス用語： アニーリング ,  *チタン酸バリウムストロンチウム ,  *マイクロ波誘電特性 ,  可同調性 ,  欠陥構造 ,  品質係数

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  誘電体一般  (BM05010F)

タイトルに関連する用語 (6件)： スパッタ ,  チタン酸バリウムストロンチウム ,  薄膜 ,  熱処理 ,  鉄 ,  ドーピング