抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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正電荷を持つナノ濾過(NF)様の阻止層を形成するため,転相法とそれに続く高分子電解質ポリエチレンイミン(PEI)による後処理を経由し,Torlonポリアミド-イミド(PAI)物質を利用して高性能平板正浸透(FO)膜の製造に成功した。FO膜の構造と電荷特性は流延条件の最適化と後処理のための浸漬法の選択によって注意深く調整された。特に,PAIのミクロポーラスな基質を織物に埋め込む場合,膜の機械的強度の増強により膜厚を55μmまでの減少できた。これは,高い水フラックスを可能とする。得られた膜の引き抜き溶液に面した活性層(AL-facing-DS)における水フラックスは29.65L/m<sup>2</sup>/hに達し,塩フラックスと水フラックスの比(J<sub>s</sub>/J<sub>v</sub>)は<0.8g/Lであった。フィード水に面した活性層(AL-facing-FW)においては水フラックは19.2L/m<sup>2</sup>/h,J<sub>s</sub>/J<sub>v</sub>は<0.5g/Lであった。引き抜き溶液としては0.5M MgCl<sub>2</sub>,フィード水としては脱イオン水を室温で用いた。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.