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J-GLOBAL ID：201202264503201512   整理番号：12A1430933

新しい表面取付け中性子発生装置

Novel Surface-Mounted Neutron Generator

著者 (12件)： ELIZONDO-DECANINI Juan M. (Sandia National Lab., NM, USA) ,  SCHMALE David (Sandia National Lab., NM, USA) ,  CICH Mike (Sandia National Lab., NM, USA) ,  MARTINEZ Marino (Sandia National Lab., NM, USA) ,  YOUNGMAN Kevin (Sandia National Lab., NM, USA) ,  SENKOW Matt (Sandia National Lab., NM, USA) ,  KIFF Scott (Sandia National Lab., NM, USA) ,  STEELE John (Sandia National Lab., NM, USA) ,  GOEKE Ron (Sandia National Lab., NM, USA) ,  WROBLEWSKI Brian (Sandia National Lab., NM, USA) ,  DESKO John (Sandia National Lab., NM, USA) ,  DRAGT Alexander J. (Honeywell Federal Manufacturing & Technol.-Kansas City Plant, NM, USA)
資料名： IEEE Transactions on Plasma Science  (IEEE Transactions on Plasma Science)
巻： 40  号： 9  ページ： 2145-2150  発行年： 2012年09月 
JST資料番号： D0036B  ISSN： 0093-3813  CODEN： ITPSBD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 通常の加速器利用中性子源は円筒配位を有する。中性子を利用した反応を通じて発生する放射線をがん治療等に応用する目的で,バッテリ駆動可能なチップ型中性子源を開発している。幅1.54cm,長さ3.15cm,厚さ0.3cmの平板状コンピュータチップ形状に組み込んだDT反応パルス中性子源である。3mmのギャップ間で15~20keVに加速した重水素イオンビームをトリチウムを含むターゲットに入射し,0.5μsパルス幅で10³個の14MeV中性子を発生する。イオンビームは静電レンズにより,平板状矩形ターゲットに適合したビーム形状に整形される。イオン源は中性子を吸蔵したチタン薄膜を有し,1μsパルス間にわたり徐々に重水素を供給する。中性子源の設計と初期特性測定結果を述べる。

シソーラス用語： *中性子源 ,  核融合 ,  イオンビーム ,  イオン源 ,  *放射線療法 ,  中性子
準シソーラス用語： DT核融合 ,  核融合中性子 ,  重水素イオンビーム ,  *放射線治療

分類 (2件)： プラズマ装置  (BJ02082I) ,  核融合装置  (BJ02083Z)

タイトルに関連する用語 (2件)： 表面取付け ,  中性子発生装置