文献

J-GLOBAL ID：201202264608795981   整理番号：12A1037494

カーボンナノチューブの選択的蒸着のためのUV感受性自己集合単層フォトレジスト

UV-Sensitive Self-Assembled Monolayer Photoresist for the Selective Deposition of Carbon Nanotubes

著者 (7件)： BARDECKER Julie A. (IBM T.J. Watson Res. Center, New York, USA) ,  BARDECKER Julie A. (Univ. Washington, Washington, USA) ,  AFZALI Ali (IBM T.J. Watson Res. Center, New York, USA) ,  TULEVSKI George S. (IBM T.J. Watson Res. Center, New York, USA) ,  GRAHAM Teresita (IBM T.J. Watson Res. Center, New York, USA) ,  HANNON James B. (IBM T.J. Watson Res. Center, New York, USA) ,  JEN Alex K.-Y. (Univ. Washington, Washington, USA)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 24  号： 11  ページ： 2017-2021  発行年： 2012年06月12日 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 基板として酸化ハフニウムを用いてカーボンナノチューブの選択的蒸着のためUV感受性ホスホン酸誘導体の自己集合単層フォトレジストを研究したので報告する。ホスホン酸単層はX線光電子分光法(XPS),原子間力顕微鏡(AFM)及び走査電子顕微鏡(SEM)でキャラクタライズされた。HfCO₂基板の表面は感光性化合物の自己集合を用いてマスクを通した紫外線照射により単層のパターン形成を得て,交互に疎水性及び親水性領域の表面を創生する。単層をパターン化するために紫外線の使用がスケーラブルであり,現在の半導体加工において容易に実施され得る。紫外線照射パターン形成とパターン形成の単層上に溶液(2%コール酸ナトリウム水溶液)をドロップキャストする方法の組合わせは良好な選択性と高密度を持った単層カーボンナノチューブ(SWCNTs)のパターンをもたらす。SWCNTsの選択性の更なる向上は水溶液にメタノールか,あるいはノニオン界面活性剤のTriton Xのいずれかを添加することにより水性SWCNT溶液の表面エネルギーを低下させるために達成される。最高の選択性は25vol%メタノール或いは0.1vol%Triton Xを含む溶液で観察された。

シソーラス用語： *カーボンナノチューブ ,  *蒸着 ,  *フォトレジスト ,  単一層 ,  酸化ハフニウム ,  感受性 ,  *ホスホン酸 ,  パターン形成 ,  Triton X ,  自己組織化
準シソーラス用語： 紫外線感受性

分類 (1件)： 感光材料  (ZA03020Q)

物質索引 (3件)： 4-(ホスホノメチル)安息香酸1-(2-ニトロベンジル) ,  4-(ホスホノメチル)安息香酸1-[4-(トリフルオロメチル)-2-ニトロベンジル] ,  4-(ホスホノメチル)安息香酸1-[4-(ヘキサデシルオキシ)-2-ニトロベンジル]

タイトルに関連する用語 (6件)： カーボンナノチューブ ,  蒸着 ,  感受性 ,  自己集合 ,  単層 ,  フォトレジスト