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J-GLOBAL ID：201202264660191865   整理番号：12A1432393

8mol%Y₂O₃安定化ジルコニア膜の拘束焼結

Constrained sintering of 8mol% Y₂O₃ stabilised zirconia films

著者 (3件)： WANG Xin (Dep. of Materials, Imperial Coll., London SW7 2AZ, GBR) ,  KIM Jung-sik (Dep. of Materials, Imperial Coll., London SW7 2AZ, GBR) ,  ATKINSON Alan (Dep. of Materials, Imperial Coll., London SW7 2AZ, GBR)
資料名： Journal of the European Ceramic Society  (Journal of the European Ceramic Society)
巻： 32  号： 16  ページ： 4121-4128  発行年： 2012年12月 
JST資料番号： E0801B  ISSN： 0955-2219  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 緻密なYSZ基板上に約10~15μm厚さでスクリーン印刷した8mol%Y₂O₃/92mol%ZrO₂(8YSZ)膜の拘束焼結速度と結果としての膜中に誘起した応力を温度範囲1100~1350°Cにおいて測定した。結果を以前に3YSZ膜について報告したものと比較している。両方の材料は,詳細には異なるが類似の挙動を示す。拘束緻密化速度は,異方性ミクロ組織の発達(3YSZ)の拘束に及ぼす効果と8YSZの場合,かなりの粒成長により未拘束緻密化速度と比較して多大に減速した。拘束焼結の際に発生する応力は典型的には数MPaであった。自由焼結,拘束焼結,クリープおよび粒成長についての見かけの活性化エネルギーは,おそらく粒界カチオン拡散によって主に支配されるにも拘わらず,広い範囲(135~670kJmol^-1)をカバーすることを見出した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： セラミック ,  酸化イットリウム ,  酸化ジルコニウム ,  *セラミック膜 ,  拘束 ,  *焼結 ,  応力 ,  スクリーン印刷
準シソーラス用語： YSZ【セラミック】

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 安定化 ,  ジルコニア ,  拘束焼結