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J-GLOBAL ID：201202265415490187   整理番号：12A0867351

ナノスケールリッジ開口における光学的現象に対する誘電体基板特性の効果

Effects of dielectric substrate properties for optical phenomena in a nanoscale ridge aperture

著者 (6件)： KIM Taeseob (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  LEE Won-Sup (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  KANG Sung-Mook (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  PARK No-Cheol (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  PARK Kyoung-Su (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  PARK Young-Pil (Yonsei Univ., Seoul, KOR)
資料名： Journal of Optics  (Journal of Optics)
巻： 14  号： 4  ページ： 045001,1-9  発行年： 2012年04月 
JST資料番号： D0538C  ISSN： 2040-8978  CODEN： JOOPCA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： この研究の目的は,開口上の誘電体基板層の厚さおよび比誘電率を調整すると,増加した強度を持つ小さい光スポットを作り出すことが出来ることを示すことである。数値解析により,パワー処理能力は,誘電体-基板構成上における誘電体基板の厚さと比誘電率に依存することを示した。著者らはまた,金属ナノ粒子と類似して,媒質誘電率における増加は,ナノスケールリッジ開口のプラズモン共鳴において赤方偏移を生じた。数値解析によって証明されるこれらの結果は,表面プラズモン増強透過の現象の新しい理解を提供した。著者らは,赤方偏移波長と誘電特性はプラズモン赤方偏移による光損失を補償できることを示した。さらに,誘電体基板層は,Fabry-Perot光共振器のように振る舞い,強め合うコヒーレント干渉を生じる。シミュレーション結果は,この誘電効果と赤方偏移共鳴を考える時,三角形の開口の|E|²強度は,約200%大きいことを示した。

シソーラス用語： *規模 ,  *開口 ,  基板 ,  誘電体 ,  表面プラズモン ,  薄膜 ,  金属薄膜 ,  *誘電体薄膜 ,  厚み ,  誘電率 ,  数値解析 ,  ナノ粒子 ,  共鳴 ,  赤方偏移 ,  Fabry-Perot共振器 ,  シミュレーション ,  波長依存性 ,  光透過 ,  屈折率
準シソーラス用語： *ナノスケール ,  プラズモン共鳴 ,  金属ナノ粒子 ,  金薄膜 ,  厚さ ,  比誘電率

分類 (2件)： 電磁気学一般  (BD01020N) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (2件)： 光学的現象 ,  誘電体基板