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J-GLOBAL ID：201202265778401496   整理番号：12A0785015

ジブロック共重合体薄膜中でパターンにより生じた応力局在化

Pattern Driven Stress Localization in Thin Diblock Copolymer Films

著者 (2件)： CROLL Andrew B. (North Dakota State Univ., North Dakota, USA) ,  CROSBY Alfred J. (Univ. Massachusetts, Massachusetts, USA)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 45  号： 9  ページ： 4001-4006  発行年： 2012年05月08日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 市販エラストマ(Dow-Corning,Sylgard184)上に,キャッピングフィルムとしてジブロック共重合体{ポリスチレン-b-ポリ(2-ビニルピリジン)}を圧着したフィルム/エラストマー複合材料を調製した。本複合材料は略同一のガラス転移点と弾性係数を示し,高い相互作用パラメータを持ち非混和性であった。均一厚さの複合フィルム,および,長時間アニールして不均一厚さのフィルムサンプルを調製した。これらのサンプルに力を加え,歪を生じさせ,表面の正弦波状の皺,褶曲構造の皺,折畳み構造などをAFMで観察し,パターンにより生じた応力局在化,生体外表面に見られる皺,褶曲構造との関連を考察した。

シソーラス用語： *ジブロック共重合体 ,  *高分子薄膜 ,  ポリスチレン ,  P2VP ,  ゴム ,  *複合材料 ,  応力 ,  改変 ,  皺 ,  褶曲構造 ,  *位相幾何学 ,  *モルフォロジー
準シソーラス用語： ポリ(2-ビニルピリジン) ,  エラストマ ,  高分子複合材料 ,  局在化 ,  *トポロジー

分類 (2件)： 高分子材料一般  (YH07010B) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (4件)： ジブロック共重合体 ,  薄膜 ,  応力 ,  局在化