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J-GLOBAL ID：201202265867352482   整理番号：12A0257007

高エネルギーX線ナノ撮像のための円形多層ゾーンプレート

Circular multilayer zone plate for high-energy x-ray nano-imaging

著者 (8件)： KOYAMA Takahisa (Graduate School of Material Sci., Univ. of Hyogo, Kamigori, Ako, Hyogo 678-1297, JPN) ,  TAKANO Hidekazu (Graduate School of Material Sci., Univ. of Hyogo, Kamigori, Ako, Hyogo 678-1297, JPN) ,  KONISHI Shigeki (Graduate School of Material Sci., Univ. of Hyogo, Kamigori, Ako, Hyogo 678-1297, JPN) ,  TSUJI Takuya (Graduate School of Material Sci., Univ. of Hyogo, Kamigori, Ako, Hyogo 678-1297, JPN) ,  TAKENAKA Hisataka (NTT Advanced Technol. Corp., 3-1 Morinosato Wakamiya, Atsugi, Kanagawa 243-0124, JPN) ,  ICHIMARU Satoshi (NTT Advanced Technol. Corp., 3-1 Morinosato Wakamiya, Atsugi, Kanagawa 243-0124, JPN) ,  OHCHI Tadayuki (NTT Advanced Technol. Corp., 3-1 Morinosato Wakamiya, Atsugi, Kanagawa 243-0124, JPN) ,  KAGOSHIMA Yasushi (Graduate School of Material Sci., Univ. of Hyogo, Kamigori, Ako, Hyogo 678-1297, JPN)
資料名： Review of Scientific Instruments  (Review of Scientific Instruments)
巻： 83  号： 1  ページ： 013705  発行年： 2012年01月 
JST資料番号： D0517A  ISSN： 0034-6748  CODEN： RSINAK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 円形多層ゾーンプレート(MZP)を製作して,その集束性能を,20keV X線を用いて評価した。MoSi₂とSi層をワイヤコア上にDCマグネトロンスパッタリングによって交互に蒸着し,全ての界面がFresnelゾーン条件を満たしていた。測定した線広がり関数はトモグラフィー再構成によって点広がり関数に変換した。結果は,MZPが,(回折積分を用いて35nmであると計算される)回折制限分解能を実現する可能性を持っていることを示唆した。さらに,MZPを用いた走査透過顕微鏡は50nmのラインアンドスペースパターンを分解することができた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *X線 ,  *撮像 ,  円形 ,  多層 ,  *ゾーンプレート ,  集束 ,  ケイ化モリブデン ,  ケイ素 ,  中心核 ,  界面 ,  点像分布関数 ,  トモグラフィー ,  再構成 ,  分解能 ,  透過型走査電子顕微鏡 ,  直流マグネトロンスパッタリング ,  ナノスケール ,  *高エネルギーX線 ,  型紙
準シソーラス用語： Fresnelゾーンプレート ,  コア ,  パターン ,  ワイヤ ,  回折積分 ,  点ひろがり関数

分類 (2件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  X線技術  (BA02060D)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高エネルギーX線 ,  撮像 ,  円形 ,  多層 ,  ゾーン