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J-GLOBAL ID:201202265995130921   整理番号:12A1432074

冶金的品質ケイ素から太陽電池用ケイ素までの湿式冶金精製についての溶解窓:Feけい化物についてのEh-pH図

Dissolution windows for hydrometallurgical purification of metallurgical-grade silicon to solar-grade silicon: Eh-pH diagrams for Fe silicides
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巻: 127-128  ページ: 178-186  発行年: 2012年10月 
JST資料番号: A0931B  ISSN: 0304-386X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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システムFe-Si-(Cl-)-(F-)-H2Oについての電位対pHの図をHSC5.0ソフトウェアを用いて生成させ,湿式冶金法による冶金的品質ケイ素(MG-Si)の精製に適用した。Fe-Si-H2Oシステムについてのこの図は,電気化学的電位(Eh)の増加とともに,Feケイ化物の出現の順番はFeSi2,FeSiおよびFe3Siであることを示している。さらに,熱力学的観点から,Feケイ化物(FeSi2,FeSiおよびFe3Si)中のSiは,Feと比較して対応するケイ化物のより低い電位によりFeよりも容易に酸化するであろう。溶解の際のSiO2の初期の形成は,これまでの実験結果で検証されているように,Feのさらなる溶解を抑制あるいは遅延させるであろう。この抑制効果はケイ化物中のSi量の増加とともに増大することが予測される。Fe-Si-Cl--H2Oシステムについての図は,FeSiおよびFe3Siのような相対的に低いSi量のFeケイ化物の溶解は酸性溶液中への塩素イオンの添加によって向上することを示している。HFの存在のもとで,フルオロ錯体の形成が,{F}の増加および/あるいは温度の低下と共に増大する溶解鉄とケイ素の安定域を拡大する。Fe-Si-Cl--H2Oシステムに対して得た傾向が,Feケイ化物の溶解は浸出プロセスの際の温度の低下あるいは(FeF2)(s)の除去(例えば超音波照射)によって向上できることを示唆している。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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精錬 

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