回転円板反応器における薄膜流の滞留時間分布のオンライン電気伝導率測定

MOHAMMADI Somaieh; BOODHOO Kamelia V.K.

文献

J-GLOBAL ID：201202266845946610 整理番号：12A1718883

回転円板反応器における薄膜流の滞留時間分布のオンライン電気伝導率測定

Online conductivity measurement of residence time distribution of thin film flow in the spinning disc reactor

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資料名：
巻： 207-208 ページ： 885-894 発行年： 2012年10月01日
JST資料番号： D0723A ISSN： 1385-8947 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

本研究の目的は,プラグ流に近い挙動が回転円板上で支配的になる,実験条件を求めることにある。著者らが見出したところでは,円板速度と液体流速が高く加工液体粘度が低くなると,円板上の液膜内の条件がプラグ流挙動に近づいた。これらの効果は,表面波強度が増加した結果として液膜中に誘起された強度の乱流に帰せられ,膜厚に渡る横断混合を促進しそしてどの半径位置でもさらに均一な速度分布を促進した。液体を半径方向に円板縁に向ける,遠心力もまた半径方向分散を減少させる役割を演じた。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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反応装置

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