抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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最近,レーザマイクロマシニングがMEMSを高精度に再現性良く製造する技術と考えられている理由は,集光レーザビーム特性が優れているためである。それは,ユニークなツールだけでなく見えない光学的ドリルでもある。本論文の目的は二つある。一つは,新しいチタニウムの小型三次元MEMS表面構造を作製して,冷却性能を増大することである。次に,レーザ材料相互作用機構を制御する使用可能なパラメータを見つけることである。また,20Wのイッテルビウムファイバレーザを利用して,新しい半スリンキー様MEMS構造を得るために,最良の調整を提案することであった。パルス幅40nsのイッテルビウムファイバレーザ(λ=1060nm)を利用して,新しい界面冷却器を有する純粋チタニウムマイクロMEMSプロダクトを製造した。最良の調整パラメータを示した。パルス幅は40ns,パルスエネルギーは0.4mJ,レーザ走査速度は336.1mm/sピーク出力密度は17.46x10
8W/cm
2であった。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.