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J-GLOBAL ID：201202266935760809   整理番号：12A0215111

金属薄膜スタックの厚さおよび組成を決定する方法としてのX線蛍光分光法の適用性:画像化および形状測定との比較

Applicability of X-ray fluorescence spectroscopy as method to determine thickness and composition of stacks of metal thin films: A comparison with imaging and profilometry

著者 (4件)： VRIELINK J.a.m. ,  TIGGELAAR R.m. ,  GARDENIERS J.g.e. ,  LEFFERTS L.
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 520  号： 6  ページ： 1740-1744  発行年： 2012年01月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,ガラスおよびシリコン上に堆積した多様な単一層および多重層金属薄膜の厚さの迅速,精密および非破壊的決定のためにX線蛍光分光法(XRF)を適用することを調べた。XRFで求めたデータを形状測定そして走査型電子顕微鏡法(SEM)から得られた知見と比較した。形状測定および断面SEM画像化に基づく厚さ決定は,金属スタックの厚さあるいは金属の硬度に関して制約をもっているが,XRFはそのような制限をもたない。さらに,XRFは多重層膜における下部層を識別することができ,組成分析および密度評価に用いることもできる。スパッター蒸着そして蒸着した薄膜の密度がバルク金属のそれより約5%低いという正当な想定のもとで,XRF,形状測定そしてSEM画像により求めた厚さデータ間に良好な一致を見出した。非パターン化領域(64mm²)だけでなく,一連の微小な金属線(約8mm²の全金属表面)を含むリソグラフィーでパターン化した領域に対しても同様なXRF結果を見出した。結果として,薄い金属膜線パターンの作製中だけでなく,適用前あるいは適用後に,薄い金属膜線パターンを解析し,検証し,厚さ,密度あるいは(元素)組成を制御あるいは評価するための汎用技法であると結論した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *金属薄膜 ,  *蛍光X線分析 ,  *膜厚 ,  *形態 ,  *化学組成 ,  密度 ,  電子顕微鏡観察 ,  リソグラフィー ,  *パターン形成
準シソーラス用語： X線蛍光分析

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  その他の物理分析  (CC03014E)

タイトルに関連する用語 (8件)： 金属薄膜 ,  スタック ,  組成 ,  X線 ,  蛍光分光法 ,  適用性 ,  画像化 ,  形状測定