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J-GLOBAL ID：201202267567883993   整理番号：12A0905589

顔料及びナノ充填剤データベース

Pigment and nanofiller photoreactivity database

著者 (5件)： WATSON Stephanie (National Inst. of Standards and Technol., Engineering Lab., Gaithersburg, MD, USA) ,  TSENG I-Hsiang (National Inst. of Standards and Technol., Engineering Lab., Gaithersburg, MD, USA) ,  MARRAY Tarek (National Inst. of Standards and Technol., Engineering Lab., Gaithersburg, MD, USA) ,  PELLEGRIN Bastien (National Inst. of Standards and Technol., Engineering Lab., Gaithersburg, MD, USA) ,  COMTE Julien (National Inst. of Standards and Technol., Engineering Lab., Gaithersburg, MD, USA)
資料名： Journal of Coatings Technology and Research  (Journal of Coatings Technology and Research)
巻： 9  号： 4  ページ： 443-451  発行年： 2012年07月 
JST資料番号： H0021C  ISSN： 1547-0091  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 充填剤を含有するナノ複合材料の供用期間はこれらの充填剤の光触媒特性に影響され,特に二酸化チタン(TiO₂)などのナローバンドギャップ金属酸化物(NBMO)の場合に影響が大きい。UV照射した場合NBMOは電子及びその他の化学種を生成し,それらは接触した有機材料を急速に分解させる原因になる。電子及び正孔は表面に移行して化学種と反応して各種フリーラジカルを生成する。電子常磁性共鳴(EPR)法を用いたTiO₂光反応性の特性化のための計測科学ツールがNISTの工学研究所によって開発され,EPR法と現在工業的に行われている方法がリンクされた。TiO2光活性値とその他のEPR法及び工業的評価法による測定値が集録され,NIST標準参照データベースに属するソフトウェアプログラムhttp://www.nist.gov/srd/index.cfm.によってアクセス可能になる予定である。このデータベースは製品の選定と製品性能のより信頼性の高い評価のために役立つ基本的な光反応性データを提供する。Copyright 2012 ACA and OCCA (outside USA) Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *塗料 ,  *充填剤 ,  顔料 ,  *ナノ粒子 ,  活性化 ,  半導体 ,  金属酸化物 ,  酸化チタン ,  電子生成 ,  正孔 ,  ラジカル反応 ,  スペクトロスコピー ,  *触媒活性 ,  *データベース ,  選択 ,  予測 ,  *光劣化
準シソーラス用語： ナローバンドギャップ半導体 ,  *フリーラジカル反応 ,  二酸化チタン ,  *光活性 ,  材料選定 ,  性能予測 ,  *電子常磁性共鳴法 ,  *UV照射

分類 (4件)： 塗料の性質  (YJ03020Q) ,  顔料  (YJ03030B) ,  光化学一般  (CB08010U) ,  高分子の分解,劣化  (CG03010A)

タイトルに関連する用語 (3件)： 顔料 ,  ナノ充填剤 ,  データベース