抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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本研究は希薄硫酸ニッケル溶液からの亜鉛上でのセメンテーションによるニッケルイオンの除去を扱う。ニッケルイオン除去速度に及ぼす初期ニッケルイオン濃度,温度,磁気攪拌機の回転速度,1-アリル-3-(1-フェニルピラゾロ[3,4-b]キノキサリン)-2-プロペノン誘導体の濃度のような異なるパラメータの効果を調べた。セメンテーション反応は一次の速度式と拡散律速段階に従った。セメンテーションの速度はピラゾーロ-キノキサリン誘導体の存在で増加することを見出した。活性化エネルギーの値と撹拌に伴うセメンテーションの速度の増加が,Zn上のNi
2+のセメンテーションが拡散律速であることを支持する。カルコンの存在におけるニッケルの堆積形態は樹枝状晶であることを見出した。この樹枝状晶は局所的な表面粗さを形成し渦の形成を誘起する。この渦はニッケルセメンテーションの速度を高める。実験結果を量子化学計算によって解析した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.