文献

J-GLOBAL ID：201202268040126147   整理番号：12A1253257

希釈Gdドーピングした(Fe₅₀Co₅₀)_1-x-Gd_x薄膜の磁気特性

Magnetic Properties of (Fe₅₀Co₅₀)_1-x-Gd_x Thin Films with Diluted Gd Doping

著者 (11件)： SUN L. (Southeast Univ., Nanjing, CHN) ,  SUN L. (Hainan Normal Univ., Haikou, CHN) ,  SUN G.N. (Southeast Univ., Nanjing, CHN) ,  WANG J.S. (Southeast Univ., Nanjing, CHN) ,  WONG P.K.J. (Univ. Twente, Enschede, NLD) ,  ZHANG Y. (Southeast Univ., Nanjing, CHN) ,  FU Y. (Southeast Univ., Nanjing, CHN) ,  ZHAI Y. (Southeast Univ., Nanjing, CHN) ,  BAI X.J. (Southeast Univ., Nanjing, CHN) ,  DU J. (Southeast Univ., Nanjing, CHN) ,  ZHAI H.R. (Southeast Univ., Nanjing, CHN)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 12  号： 8  ページ： 6562-6566  発行年： 2012年08月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Si基板上にマグネトロンスパッタで堆積した厚さ30nmのFe₅₀Co₅₀)_1-x-Gd_x(x<15%)薄膜の磁気特性を試料振動型磁力計と強磁性共鳴で調べた。XRDパターンのピークはxと共に減少し,x=12%では消失する。飽和磁化と保磁力はいずれもxと共に減少する。膜面に対してある角度でDC磁場を印加しながら測定した強磁性共鳴スペクトルに理論的スペクトルを当てはめ,表面垂直異方性定数KやLandeのg因子,磁気回転比γ,Gilbert減衰αを求めた。FeCo薄膜のKは負で,表面垂直異方性の容易軸は面内にあるが,xと共に容易軸が薄膜の法線に沿って変化する。g因子とγ,αはいずれもxと共に増加した。

シソーラス用語： *コバルト合金 ,  *鉄含有合金 ,  金属間化合物 ,  *ガドリニウム ,  *ドーピング ,  磁性薄膜 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  スパッタ蒸着 ,  ウエハ【IC】 ,  飽和磁化 ,  *保磁力 ,  *強磁性共鳴 ,  減衰 ,  g因子 ,  強磁性体 ,  シリコンウエハ
準シソーラス用語： Si基板 ,  Gilbert減衰

分類 (4件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  金属の磁区及び磁化過程  (BM06112D) ,  強磁性共鳴,反強磁性共鳴,フェリ磁性共鳴  (BM07030P) ,  磁性材料  (NA04040H)

タイトルに関連する用語 (5件)： 希釈 ,  Gd ,  ドーピング ,  薄膜 ,  磁気特性