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J-GLOBAL ID：201202268293733015   整理番号：12A0584246

プラチナおよびルテニウム酸ストロンチウムをコーティングしたシリコン・ウエハー上にゾル-ゲル法で形成したチタン酸バリウム薄膜の高温処理の影響

Influence of high temperature processing of sol-gel derived barium titanate thin films deposited on platinum and strontium ruthenate coated silicon wafers

著者 (7件)： STAWSKI Tomasz M. ,  VIJSELAAR Wouter J.C. ,  GOEBEL Ole F. ,  VELDHUIS Sjoerd A. ,  SMITH Brian F. ,  BLANK Dave H.A. ,  TEN ELSHOF Johan E.
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 520  号： 13  ページ： 4394-4401  発行年： 2012年04月30日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 200nm厚のチタン酸バリウム(BTO)薄膜を,アルコキシド-カルボン酸エステルを用いたゾル-ゲルプロセスにより,Pt/TiおよびSrRuO₃/ZrO₂/Y2O₃をコーティングしたSiウエハー上に形成した。厚い円柱状のミクロ構造を有する薄膜が,低濃度ゾルの薄い無定形層の繰り返し成長,および800°Cの結晶化から得られた。この厳しい加工条件のため,SiがBTO中に拡散し,界面にケイサン塩が形成されBTO層の強誘電特性を劣化させた。SrRuO₃/ZrO₂-8%のY₂O₃/Si基板を使用すると,Siの拡散が抑制され,その結果良好な誘電および強誘電特性を有するBTO膜が得られた。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 白金 ,  ストロンチウム化合物 ,  ルテニウム化合物 ,  酸素酸塩 ,  ウエハ【IC】 ,  *薄膜成長 ,  *チタン酸バリウム ,  *強誘電性 ,  *固体内拡散
準シソーラス用語： シリコンウエハ ,  *ゾルゲル成長 ,  プラチナ

分類 (2件)： 強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (9件)： プラチナ ,  ルテニウム酸ストロンチウム ,  コーティング ,  シリコン ,  ウエハー ,  ゾル-ゲル法 ,  チタン酸バリウム ,  薄膜 ,  高温処理