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J-GLOBAL ID：201202268804484833   整理番号：12A0543731

金属のヒドリドシラン改質:予備研究

Hydridosilane Modification of Metals: An Exploratory Study

著者 (6件)： ARKLES Barry (Gelest Inc., PA, USA) ,  PAN Youlin (Gelest Inc., PA, USA) ,  KIM Yun Mi (Gelest Inc., PA, USA) ,  EISENBRAUN Eric (SUNY, NY, USA) ,  MILLER Christopher (SUNY, NY, USA) ,  KALOYEROS Alain E. (SUNY, NY, USA)
資料名： Journal of Adhesion Science and Technology  (Journal of Adhesion Science and Technology)
巻： 26  号： 1/3  ページ： 41-54  発行年： 2012年 
JST資料番号： T0475A  ISSN： 0169-4243  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 金属酸化物基板へのアルコキシラン処理と類似の効果を狙って,酸化物層を含まない純粋金属基板へのヒドリドシランの処理効果を調べた。金属及び半金属基板としてチタン,金,及びシリコンを,ヒドリドシランとして各種のアルキルジメチルモノヒドリドシランとアルキルトリヒドリドシランを用いた。ヒドリドシランを室温のヘプタン溶液として処理するか,又は80°Cでそのまま処理し,水接触角により基板との相互作用性を調べた。その結果,相互作用性はトリヒドリドシランに方がモノヒドリドシランよりも大きく,トリヒドリドシランでは自己集合単分子層が形成されると見なせた。新しいトリヒドリドシランとして4-ブロモブチルシラン,11-ブロモウンデシルシラン,1,4-ジシラブタン,1,10-ジシラデカンをそれぞれ合成し,処理金属基板をFTIR及びXPSにより分析した。

シソーラス用語： *有機ケイ素化合物 ,  シラン誘導体 ,  接触角 ,  チタン ,  金 ,  ケイ素 ,  基板 ,  表面改質 ,  単分子層 ,  化学合成 ,  *化成処理
準シソーラス用語： *金属基板 ,  自己集合単分子層

分類 (1件)： 化成処理  (WC08050J)

物質索引 (8件)： (11-ブロモウンデシル)シラン ,  (4-ブロモブチル)シラン ,  1,10-ジシラデカン ,  1,4-ジシラブタン ,  オクタデシルジメチルシラン ,  オクタデシルシラン ,  オクチルジメチルシラン ,  オクチルシラン

タイトルに関連する用語 (2件)： 改質 ,  研究