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J-GLOBAL ID：201202269151973678   整理番号：12A0396339

アニオン性ポリアクリルアミドを用いた錯化-限外ろ過(CUF)による水溶液から銀の除去

Removal of silver from aqueous solutions by complexation-ultrafiltration using anionic polyacrylamide

著者 (3件)： DESAI Kartik R. (Dep. of Chemical Engineering, S.V. National Inst. of Technol., Surat 395007, Gujarat, IND) ,  DESAI Kartik R. (Dep. of Chemical Engineering, N.G. Patel Polytechnic, Isroli-Afwa, Tal. Bardoli, Dist. Surat 394620, Gujarat, IND) ,  MURTHY Z.v.p. (Dep. of Chemical Engineering, S.V. National Inst. of Technol., Surat 395007, Gujarat, IND)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 185-186  ページ： 187-192  発行年： 2012年03月15日 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 銀イオンを含む廃水は金属仕上げ,電気メッキ,エレクトロニックス,危険物廃棄サイト,電気業界,などの幾つかの源泉から生成する。錯化-限外ろ過(CUF)は例えトレース濃度でも重金属の除去と回収をする為に開発中のハイブリッドプロセスである。本研究では新しい錯化剤,即ち,アニオン性ポリアクリルアミド(平均分子量>50kDa)及びポリエーテルスルフォンUF膜(分子量カットオフ:10kDa)を用いたCUFによる水溶液から銀イオンの分離について,及び金属イオン排除率に及ぼす運転パラメーターの影響をUF膜のファウリング挙動,及び回収の為の銀イオンの解錯化を含めて研究した。UF実験はPerma-パイロットプラントに於いて金属塩の合成水溶液を用い,異なる圧力(4,5,6atm)下にフィード中の初期金属イオン濃度(5,10,15,20,50ppm),フィードpH(4,5,6,7,8,9),及びポリマー対金属イオン比(0.5,1,1.5)で15L/minの一定フィード流量で行った。銀イオンの100%に近い最大排除率が最適運転パラメーターに於いて得られた。金属イオンのアニオン性ポリアクリルアミド(aPAM)との錯化反応を別の実験で研究し,銀イオンが錯化反応の平衡に達するまでに24分が必要なことを示唆した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ポリアクリルアミド ,  *錯体生成 ,  *限外濾過 ,  *水溶液 ,  除去 ,  *高分子電解質 ,  ポリエーテルスルホン ,  *金属イオン ,  *銀化合物 ,  パラメータ ,  汚損 ,  パイロットプラント ,  初期条件 ,  濃度依存性 ,  pH依存性 ,  高分子分離膜 ,  *廃水処理
準シソーラス用語： *アニオン性高分子 ,  運転パラメータ ,  *銀イオン ,  排除

分類 (3件)： 膜分離  (XD02120Z) ,  アクリル樹脂  (YH07110K) ,  下水,廃水の物理的処理  (SC03040L)

タイトルに関連する用語 (6件)： アニオン性 ,  ポリアクリルアミド ,  錯化 ,  限外ろ過 ,  水溶液 ,  銀