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J-GLOBAL ID：201202269450715138   整理番号：12A1738322

水浄化応用のための機械的および構造的にロバストなスルホン化ブロックコポリマー膜

Mechanically and structurally robust sulfonated block copolymer membranes for water purification applications

著者 (6件)： YEO J (Pohang Univ. Sci. and Technol. (POSTECH), Pohang, KOR) ,  KIM S Y (Pohang Univ. Sci. and Technol. (POSTECH), Pohang, KOR) ,  KIM S (Res. Inst. of Industrial Sci. and Technol. (RIST), Pohang, KOR) ,  RYU D Y (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  KIM T-H (Korea Atomic Energy Res. Inst., Daejeon, KOR) ,  PARK M J (Pohang Univ. Sci. and Technol. (POSTECH), Pohang, KOR)
資料名： Nanotechnology  (Nanotechnology)
巻： 23  号： 24  ページ： 245703,1-11  発行年： 2012年06月22日 
JST資料番号： W0108A  ISSN： 0957-4484  CODEN： NNOTER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 制御された分子量およびブロック構造をもつスルホン酸ポリスチレン(PSS)鎖および水素化ポリイソプレン(hPI)ブロックから成る,スルホン化ブロックコポリマーに基づく新しい種類のナノ濾過(NF)膜を研究した。hPI鎖はフレキシブルな支持マトリックスとして作用するだけでなく,PSS鎖との熱力学的に極度の不親和性も誘発させ,ナノメータースケールで自己集合構造に対して例外的な制御を提供した。この研究で用いた系は,親水性PSS領域が3-5nm範囲の直径をもつ良く定義されたイオン性領域を有し,塩イオンならびに定義された分子量カットオフ(MWCO)をもつ中性有機分子を拒絶できるため,NF応用に対して特に理想的であった。トリ-ブロック構造の使用によって,ジ-ブロックコポリマーのそれよりも高い水透過率で多価カチオン(Ni²⁺,Cu²⁺,Cd²⁺,>99%)および一価イオン(Na⁺>87%,NO₃^->85%)を除去することができる機械的にロバストな膜に近付くことが可能となったことが示された。

シソーラス用語： *浄水 ,  ポリスチレンスルホン酸 ,  ポリイソプレン ,  高分子分離膜 ,  自己集合 ,  *ジブロック共重合体 ,  小角X線散乱 ,  膜透過
準シソーラス用語： ナノ濾過膜

分類 (1件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (5件)： 水浄化 ,  応用 ,  ロバスト ,  スルホン化 ,  コポリマー膜