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J-GLOBAL ID：201202269920512425   整理番号：12A1317297

官能化分子の同調可能密度のためのメソ及びナノテキスチャシリカ表面の作成

Fabrication of meso and nanotextured silica surfaces for tunable densities of functionalized molecules

著者 (5件)： DASTIDAR Subham (Dep. of Chemical Engineering, Indian Inst. of Technol. Kanpur, Kanpur, UP 208 016, IND) ,  CHAHAR Ravi (Dep. of Chemical Engineering, Indian Inst. of Technol. Kanpur, Kanpur, UP 208 016, IND) ,  BAL Vivekananda (Dep. of Chemical Engineering, Indian Inst. of Technol. Kanpur, Kanpur, UP 208 016, IND) ,  KUMAR Satyendra (Dep. of Chemical Engineering, Indian Inst. of Technol. Kanpur, Kanpur, UP 208 016, IND) ,  PANDA Siddhartha (Dep. of Chemical Engineering, Indian Inst. of Technol. Kanpur, Kanpur, UP 208 016, IND)
資料名： Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects  (Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects)
巻： 412  ページ： 38-46  発行年： 2012年10月20日 
JST資料番号： A0539B  ISSN： 0927-7757  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シラン化したシリカウエハの表面を適切なタイミングで,成長するシリカのメソ及びナノ粒子のゾル中に浸漬させ,静電結合を利用して同調可能テキスチャ面を得た。浸漬のタイミングが表面粒子密度に強く影響する。小さいサイズの粒子を利用すると高い表面粒子密度が得られる。粒子サイズと浸漬のタイミングの選定によりテキスチャを制御することができる。観察した過程の機構を考察した。得られたテキスチャ面を抗体で官能化し,固定化抗体の表面密度に及ぼすテキスチャの影響を調べた。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 抗体 ,  *表面構造 ,  ゾル ,  ナノ粒子 ,  *基板 ,  表面処理 ,  密度 ,  静電相互作用 ,  バイオセンサ ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  シラン処理 ,  シリカゾル ,  シリカナノ粒子 ,  *シリカ基板 ,  *テクスチャ ,  ナノシリカ ,  *表面モルホロジー ,  表面密度

分類 (3件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  非金属化合物  (CD01070R) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 官能化 ,  分子 ,  同調 ,  密度