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J-GLOBAL ID:201202270531260311   整理番号:12A1549572

Si2N2Oセラミックのその場反応性合成と性質

In-Situ Reactive Synthesis of Si2N2O Ceramics and Its Properties
著者 (2件):
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巻: 43  号: 12  ページ: 4859-4865  発行年: 2012年12月 
JST資料番号: E0265B  ISSN: 1073-5623  CODEN: MTTABN  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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Si<sub>2</sub>N<sub>2</sub>Oは高温用Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>に代わるものとして大きな可能性を持つ新しい構造/機能材料であると考えられている。本研究では,熱力学解析に基づく最適2段階焼結でSiとSiO<sub>2</sub>の粉末混合物を窒化するその場反応性合成法によって,Si<sub>2</sub>N<sub>2</sub>Oセラミックを製造した。この結果,最終焼結温度が高いほど,製造したセラミック中のSi<sub>2</sub>N<sub>2</sub>Oの純度が向上し,収縮とビッカース硬さが低下することを明らかにした。最終焼結温度を1923K(1650°C)以上にすることによって,純粋なナノ結晶粒Si<sub>2</sub>N<sub>2</sub>Oセラミックを得ることができた。1873K(1600°C)で曲げ強度と破壊靱性の両方の値が最大となった。反応機構を提唱し,製造したセラミック間の違いについて考察した。Copyright 2012 The Minerals, Metals & Materials Society and ASM International Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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セラミック・磁器の性質 
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