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J-GLOBAL ID：201202270646292535   整理番号：12A1520842

Cu_2-xSナノディスクの局在表面プラズモン共鳴へのキャリア密度と形の影響

Effects of Carrier Density and Shape on the Localized Surface Plasmon Resonances of Cu_2-xS Nanodisks

著者 (3件)： HSU Su-Wen (Univ. California, California, USA) ,  BRYKS Whitney (Univ. California, California, USA) ,  TAO Andrea R. (Univ. California, California, USA)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 24  号： 19  ページ： 3765-3771  発行年： 2012年10月09日 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： N₂雰囲気(1)または空気(2)中でのCuL₂(1,HL=ドデカンチオール)の分解(190~200°C)で合成した,Cu_2-xSナノディスクを粉末X線回折法,透過型電子顕微鏡,UV-Vis-NIRスペクトルでキャラクタライズした。反応時間を長くすると,1ではxには変化はないが,2の場合にはxが増加すること,いずれの場合もナノディスクのサイズ(15~37nm)およびアスペクト比は増大することが分かった。局在表面プラズモン共鳴のピーク位置はナノディスクの大きさとアスペクト比によって変化し,xが一定値を超えると2の構造はCu₂SからCu₉S₅型に変化し,LSPR強度が急速に減少した。1の空気中での焼成(80~120°C)によって,アスペクト比を保ったままxを変化させることができた。

シソーラス用語： 空孔欠陥 ,  銅錯体 ,  チオラート ,  *キャリア密度 ,  *プラズマ共鳴 ,  長さ ,  *アスペクト比 ,  ナノ構造 ,  記憶媒体 ,  *硫化銅 ,  *不定比化合物 ,  *半導体
準シソーラス用語： サイズ ,  ナノディスク ,  *局在表面プラズモン共鳴 ,  原子空孔

分類 (2件)： 塩  (CD01050V) ,  固体プラズマ  (BM02160W)

物質索引 (1件)： 1-ドデカンチオール

タイトルに関連する用語 (4件)： ナノディスク ,  局在表面プラズモン共鳴 ,  キャリア密度 ,  形