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J-GLOBAL ID：201202270689539143   整理番号：12A0748665

プロセス技術が重要な応用技術を確実にする

Process Technologies Secure Key Applications

著者 (1件)： SULLIVAN Janine
資料名： Microwaves & RF  (Microwaves & RF)
巻： 51  号： 2  ページ： 39-40,42,44  発行年： 2012年02月 
JST資料番号： C0037B  ISSN： 0745-2993  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 今日,RFからマイクロ波にわたって,また,民生分野から防衛分野にわたって,多くの無線技術が半導体技術に支えられている。そして多種類の半導体プロセスを用途に応じて選択することができる。本稿ではSiC,Si,SOI,SiGe,GaAsおよびGaNを取り上げた。Si技術は4GHz以下の周波数で有用であり,GaAsとGaNはより高周波帯域,高出力に適していること,SiCはキロワットレベルのVHF/UHFパルスレーダなどの用途に使えることなどを含めて,各プロセスの特徴と用途を関連メーカの専門家のコメントを交えて述べた。

シソーラス用語： *無線伝送 ,  *半導体プロセス ,  周波数 ,  マイクロ波 ,  ケイ素 ,  炭化ケイ素 ,  半導体材料 ,  ヒ化ガリウム ,  窒化ガリウム
準シソーラス用語： RF波 ,  SiGe ,  SOI ,  高出力マイクロ波 ,  無線周波数

分類 (2件)： 固体デバイス一般  (NC03010Z) ,  無線通信一般  (ND08010L)

タイトルに関連する用語 (2件)： プロセス ,  応用