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J-GLOBAL ID:201202270695538582   整理番号:12A1032169

最外部表面スルホンアミド部分を有する熱応答性ナノミセルのpH誘導相転移制御

pH-induced phase transition control of thermoresponsive nano-micelles possessing outermost surface sulfonamide moieties
著者 (6件):
資料名:
巻: 99  ページ: 12-19  発行年: 2012年11月01日 
JST資料番号: W0541A  ISSN: 0927-7765  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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熱応答性ポリ(N-イソプロピルアクリルアミド-co-N,N-ジメチルアクリルアミド)(PIPAAm-co-DMAAm)と疎水性ポリ(ベンジルメタクリレート)ブロックからなるジブロック共重合体を,可逆的付加開裂連鎖移動ラジカル重合により調製した。(PIPAAm-co-DMAAm)末端に位置するジチオベンゾエート基の,アミノリシスにより露出されたチオール基によるカップリング反応により,pH応答性スルファジメトキシン(SD)またはヒドロキシル基のいずれかを持つ熱応答性ブロックの末端官能基化を行った。末端基に関係なく,低い臨界ミセル濃度(3.1~3.3mg/L)の末端官能性ジブロック共重合体のマルチ集合体を通して,最外部表面官能化高分子ミセルを形成した。種々の最外部表面官能基は,種々のpH値での約19nmのナノスケールの直径にはほとんど影響しなかった。ノニオン系(フェニルとヒドロキシル)表面ミセルのゼータ電位は,8.1~5.4の範囲のpH値とは無関係であったが,SD-表面高分子ミセルのゼータ電位は,表面のSD単位のプロトン化(pKa=6.2)に起因するpH値の減少とともに,-12から-4mVへ変化した。また,SD-表面ミセルの下限臨界溶液温度(LCST)は,8.1から5.4へのpHの低下とともに,38.6から22.6へと大きくシフトした。これらのpH誘導低LCSTシフトは,SD部分の電荷中和とコロナ形成ポリマー鎖のそれに続く促進された脱水による,極度に増加する表面の疎水性に起因した。これらの結果は,熱応答性ナノミセルの相転移挙動が,特定の信号(例えば,pH,光,および生体分子の相互作用)を介した最外部表面化学の性質を調節することにより,特に制御されることを示した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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高分子溶液の物理的性質 
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