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J-GLOBAL ID：201202271115581644   整理番号：12A0862464

塗布型成膜技術の今後の課題 室温塗布プロセス用金属ナノ粒子

著者 (1件)： 金原正幸 (岡山大)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 63  号： 6  ページ： 353-356  発行年： 2012年06月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： マイクロエレクトロニクスデバイスの製造において,高真空・高温を用いずに大気・常温で処理可能な印刷によるデバイス製造が進展している。このプロセスではナノ粒子が重要な役割を果す。本稿では,金属のナノ粒子に焦点を当て,特に常温導電性金属ナノインクについてその概要を示した。金属ナノ粒子を利用する上でその活性に起因する不安定性を克服するために配位子を用いるが,導体として利用する際にはこの配位子を除去することになる。しかしながら,この除去過程は大きな収縮を伴い,多くの場合望ましくない膜形態を引き起こす。著者らは,この課題に対して,配位子の除去を必要としないナノ粒子導電インクを開発した。これは,π共役分子を利用するものである。このインクの印刷事例(特性・ミクロ組織)を示した。

シソーラス用語： *粒子 ,  *ナノ粒子 ,  *インク ,  高分子
準シソーラス用語： π共役高分子 ,  *金属粒子 ,  *導電性インク

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

引用文献 (5件)：

• 1) 菅沼克昭 (監修) ; 金属ナノ粒子インクの配線技術窶買Cンクジェット技術を中心に (シーエムシー, 2011).
• 2) M. Kanehara, H. Takahashi, T. Teranishi ; Angew. Chem. Int. Ed., 47, 307 (2008).
• 3) M. Kanehara, J. Takeya, T. Uemura, H. Murata, K. Takimiya, H. Sekine, T. Teranishi ; submitted.
• 4) A. Zabet-Khosousi, A.-A. Dhirani ; Chem. Rev., 108, 4072 (2008).
• 5) T. Uemura, Y. Hirose, M. Uno, K. Takimiya, J. Takeya ; Appl. Phys. Express, 2, 111501 (2009).

タイトルに関連する用語 (4件)： 成膜 ,  室温 ,  塗布プロセス ,  金属ナノ粒子