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J-GLOBAL ID:201202271804195409   整理番号:12A0274411

グルコン酸を含んだCu(II)溶液中での酸化第一銅の層の形成

Formation of cuprous oxide layers in Cu(II) solutions containing gluconic acid
著者 (5件):
資料名:
巻: 16  号:ページ: 521-527  発行年: 2012年02月 
JST資料番号: W1021A  ISSN: 1432-8488  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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熱力学解析に従って酸化第一銅の層は,Cu|Cu(II)溶液中のグルコン酸系のpH3.7以下の開回路条件下で自発的に形成する。CuO還元の電流ピークは-0.7Vにおいて陰極のボルタンモグラムが観察され,その高さは露出時間に依存した。この電荷の転移の範囲内での分析は1.25×10-10molcm-2s-1の範囲と等しい Cu2O組成の割合をしめした。アノードの光電流の生成において,開回路状況下でのCu電極の軽度な摂動の結果は,n型伝導率を示した。限界波長は590nmと等しく,バンドギャップは2.1eVと一致した。開路電位の近くで観測された陽極の光電流は,陽極の二極分化とその値を~0.05Vに変え,減少した。インピーダンスデータの分析をおこなった結果,それは等価回路を引き起こして二段電荷転送の原因となっていた。Cu2Oが存在するもとで,Cu(II)濃縮が若干の遅延が,二重層のアドビタンスがわずかな増加を起こすとがわかった。これはCu(II)グルコン酸塩溶液で形成される酸化物層で,全ての電極表面で密集と一様な分布ができないとういうことを示した。表面の形態に関連した文献はこの結果を支持した。Copyright 2011 Springer-Verlag Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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電極過程  ,  その他の無機化合物の薄膜 
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